脉冲强流电子束作用下回喷靶材速度测量

第一章 引言	第1-9页
第二章 国内外研究进展	第9-17页
·束靶相互作用	第9-12页
·脉冲激光辐照	第9-11页
·脉冲电子束辐照	第11页
·脉冲激光辐照和电子束辐照的不同点	第11-12页
·速度测量技术	第12-14页
·激光全息术	第12-13页
·高速摄影技术	第13-14页
·屏蔽技术	第14-17页
·电磁屏蔽	第14-15页
·X射线屏蔽	第15-17页
第三章 电子束与高Z靶材相互作用的理论研究	第17-27页
·束靶相互作用原理	第17页
·束靶相互作用的M-C模拟	第17-21页
·MCNP程序简介	第17-18页
·MCNP建模	第18页
·模拟结果及分析	第18-21页
·靶破坏的流体动力学模拟	第21-27页
第四章 回喷靶材速度的测量	第27-38页
·实验方法	第27-29页
·脉冲激光同轴全息术	第27-28页
·高速摄影	第28-29页
·实验装置设计	第29-32页
·全息照相实验装置与时序	第29-30页
·高速摄影实验装置与时序	第30-32页
·实验结果及分析	第32-35页
·脉冲激光同轴全息术在强干扰条件下的误触发现象	第32-34页
·用高速摄影术测回喷靶材速度	第34-35页
·实验与理论结果比较与讨论	第35-38页
第五章 关于实验结果的进一步分析与讨论	第38-44页
·实验现象分析	第38-40页
·孔的形成时间	第38-39页
·实验中的光现象	第39-40页
·电子束对担金属靶的破坏机制	第40-44页
·温度和压强估算	第41页
·靶的破坏过程分析	第41-44页
第六章 结论与展望	第44-45页
参考文献	第45-48页
致谢	第48-49页
附录	第49页