中文摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-6页 |
目录 | 第6-8页 |
第一章 引言 | 第8-32页 |
·半导体光催化氧化技术 | 第8-23页 |
·半导体光催化技术 | 第8-9页 |
·半导体光催化反应机理 | 第9-12页 |
·光催化反应的特点 | 第12-13页 |
·影响光催化氧化反应的因素 | 第13-17页 |
·外场对光催化反应的影响 | 第17-23页 |
·微波化学 | 第23-30页 |
·微波加热原理 | 第23-24页 |
·微波加热特点 | 第24-25页 |
·微波在常规催化中的应用 | 第25-26页 |
·催化反应的微波效应 | 第26-28页 |
·微波诱导光催化 | 第28-30页 |
·本论文立题依据与实验构想 | 第30-32页 |
第二章 实验部分 | 第32-39页 |
·实验方案 | 第32-33页 |
·催化剂的制备 | 第33页 |
·TiO_2 溶胶的制备 | 第33页 |
·TiO_2 催化剂的微波介电加热法和常规加热法制备 | 第33页 |
·Al_2O_3/TiO_2 催化剂的微波介电加热和常规加热法制备 | 第33页 |
·光催化反应性能评价 | 第33-35页 |
·光催化反应装置 | 第33-34页 |
·微波-光催化反应装置 | 第34-35页 |
·催化剂表征 | 第35-39页 |
·溶胶粒度分布 | 第35-36页 |
·催化剂比表面积和孔结构 | 第36页 |
·晶相结构 | 第36页 |
·催化剂的光吸收性能 | 第36-37页 |
·荧光光谱(PL)和表面光电压谱(SPS) | 第37页 |
·X-射线光电子能谱(XPS) | 第37页 |
·羟基自由基的检测 | 第37-38页 |
·催化剂的微波吸收谱测定 | 第38-39页 |
第三章 微波介电加热制备方法对催化剂结构及性能的影响 | 第39-59页 |
·前驱物TiO_2 溶胶的性质 | 第39-40页 |
·微波介电加热制备法对TiO_2 催化剂结构形态的影响 | 第40-43页 |
·晶相结构 | 第40-41页 |
·比表面积和孔结构 | 第41-42页 |
·催化剂的形貌 | 第42-43页 |
·微波介电加热法对TiO_2 催化剂光电性能的影响 | 第43-46页 |
·紫外-可见漫反射吸收光谱 | 第43页 |
·荧光光谱 | 第43-44页 |
·表面光电压谱 | 第44-45页 |
·X 射线光电子能谱(XPS)分析 | 第45-46页 |
·微波介电加热法对TiO_2 催化剂光催化性能的影响 | 第46-49页 |
·光催化降解乙烯的反应性能 | 第46-47页 |
·光催化降解乙醛的反应性能 | 第47-49页 |
·微波介电加热条件对催化剂结构和性能的影响 | 第49-52页 |
·微波辐射不同时间所制催化剂的晶相结构 | 第49-50页 |
·微波辐射不同时间所制催化剂的表面积和孔结构 | 第50-51页 |
·微波功率对催化剂制备的影响 | 第51页 |
·微波介电加热条件对催化剂光催化氧化性能的影响 | 第51-52页 |
·微波介电加热与常规加热机理探讨 | 第52-59页 |
第四章 微波对光催化反应过程的影响 | 第59-76页 |
·微波辐射对光催化过程的影响 | 第59-67页 |
·微波对光催化反应过程羟基自由基的影响 | 第59-64页 |
·微波场中乙醛的光催化降解行为 | 第64-67页 |
·微波功率和频率对光催化反应的影响 | 第67-68页 |
·微波-光催化降解乙醛的反应机理探讨 | 第68-75页 |
·微波场中乙醛微波-光催化降解的产物分布 | 第68-71页 |
·乙醛微波-光催化降解反应的可能机理 | 第71-75页 |
小结 | 第75-76页 |
第五章 二元复合氧化物Al_2O_3/TiO_2的结构与微波-光催化反应性能 | 第76-83页 |
·Al_2O_3/TiO_2 催化剂的结构表征 | 第76-77页 |
·引入Al_2O_3 对催化剂结构的影响 | 第76-77页 |
·不同制备方法对Al_2O_3/TiO_2 催化剂结构的影响 | 第77页 |
·Al_2O_3/Ti_O2 催化剂的微波-光催化反应性能 | 第77-82页 |
·Al_2LO_3/TiO_2 与TiO_2 的微波-光催化反应性能比较 | 第77-79页 |
·不同制备方法对Al_2O_3/TiO_2 微波-光催化反应性能的影响 | 第79-82页 |
小结 | 第82-83页 |
结论 | 第83-84页 |
参考文献 | 第84-90页 |
个人简历 | 第90页 |
发表文章及成果目录 | 第90-91页 |
致 谢 | 第91页 |