| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-17页 |
| ·钒资源储量 | 第8-9页 |
| ·钒的重要氧化物 | 第9-12页 |
| ·V0_2薄膜应用的前景展望 | 第12-13页 |
| ·本研究的来源、目的、意义及国内外概况和预测 | 第13-15页 |
| ·本研究的创新点 | 第15-16页 |
| ·本章小结 | 第16-17页 |
| 2 制备低温相变纳米VO_2薄膜的理论基础及工艺基础 | 第17-27页 |
| ·V_2O_5的基本物理化学性质 | 第17-20页 |
| ·VO_2的物理化学性质 | 第20-22页 |
| ·VO_2薄膜的主要制备方法 | 第22-24页 |
| ·改变VO_2薄膜相变温度的主要方法 | 第24页 |
| ·低温相变纳米VO_2薄膜的制备方案 | 第24-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 3 低温相变纳米VO_2薄膜的制备实验研究 | 第27-39页 |
| ·实验的主要装置 | 第27-30页 |
| ·低温相变纳米VO_2薄膜的制备工艺流程 | 第30-34页 |
| ·影响制备低温相变纳米VO_2薄膜性能的因素 | 第34-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 4 薄膜的电学性能和结构表征 | 第39-50页 |
| ·测试的主要实验装置 | 第39-46页 |
| ·薄膜性能测试结果及分析 | 第46-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 5 薄膜的光学性能及改善其可见光透过率的初步研究 | 第50-59页 |
| ·测试的主要实验装置 | 第50页 |
| ·可变温度光学测试平台的搭建 | 第50-52页 |
| ·薄膜性能测试结果及分析 | 第52-53页 |
| ·薄膜光学设计的理论基础 | 第53-57页 |
| ·SiO_2减反膜的镀制 | 第57页 |
| ·镀制SiO_2减反膜后可见光透过率的测试 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 6 全文总结 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 附录1 攻读学位期间发表论文目录 | 第65页 |