| Ⅰ 射频溅制备纳米二氧化钛薄膜及其光致特性研究 | 第1-61页 |
| 1 引言 | 第10-12页 |
| ·论文课题研究意义 | 第10-11页 |
| ·论文内容简介 | 第11-12页 |
| 2 纳米光催化TiO_2材料研究综述 | 第12-18页 |
| ·TiO_2的研究进展 | 第12-13页 |
| ·TiO_2的晶型结构 | 第13-14页 |
| ·TiO_2的光催化特性原理 | 第14-16页 |
| ·TiO_2的超亲水性原理 | 第16-18页 |
| 3 纳米TiO_2薄膜制备工艺及表征 | 第18-20页 |
| ·射频溅射制备TiO_2薄膜工艺 | 第18页 |
| ·纳米TiO_2薄膜的表征 | 第18-20页 |
| ·晶体结构与表面形貌 | 第18-19页 |
| ·光学性能 | 第19页 |
| ·光催化性能 | 第19页 |
| ·电化学性质 | 第19页 |
| ·光致亲水性 | 第19-20页 |
| 4 射频溅射制备纳米TiO_2薄膜的光致特性研究 | 第20-34页 |
| ·TiO_2薄膜的晶体结构 | 第20-22页 |
| ·TiO_2薄膜的表面形貌 | 第22-24页 |
| ·TiO_2薄膜的光学性能 | 第24-26页 |
| ·TiO_2薄膜的光催化性能 | 第26-27页 |
| ·TiO_2薄膜的光致亲水性 | 第27-28页 |
| ·TiO_2薄膜的电化学性质 | 第28-33页 |
| ·小结 | 第33-34页 |
| 5 射频共溅射制备超亲水纳米SiO_2-TiO_2复合薄膜 | 第34-42页 |
| ·SiO_2-TiO_2复合薄膜制备 | 第34-35页 |
| ·SiO_2-TiO_2复合薄膜的晶体结构 | 第35-36页 |
| ·SiO_2-TiO_2复合薄膜的表面形貌 | 第36-37页 |
| ·SiO_2-TiO_2复合薄膜的光学性能 | 第37-39页 |
| ·SiO_2-TiO_2复合薄膜的光催化性能 | 第39-40页 |
| ·SiO_2-TiO_2复合薄膜的光致亲水性 | 第40-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 6 射频共溅射制备金属掺杂光催化M-TiO_2薄膜 | 第42-53页 |
| ·M-TiO_2薄膜的制备 | 第42-43页 |
| ·M-TiO_2薄膜的晶体结构 | 第43-44页 |
| ·M-TiO_2薄膜的光学性能 | 第44-45页 |
| ·M-TiO_2薄膜的光催化性能 | 第45-50页 |
| ·M-TiO_2薄膜的电化学性质 | 第50-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 7 总结 | 第53-55页 |
| 8 参考文献 | 第55-61页 |
| Ⅱ 含非线性缺陷层的一维光子晶体研究 | 第61-118页 |
| 1 引言 | 第64-74页 |
| ·课题论文的研究意义 | 第64-65页 |
| ·光子晶体的研究进展 | 第65-72页 |
| ·光子晶体的概念和性质 | 第65-67页 |
| ·光子带隙 | 第66-67页 |
| ·光子局域 | 第67页 |
| ·光子晶体的制备工艺 | 第67-69页 |
| ·半导体制造技术 | 第67页 |
| ·自组装法 | 第67-68页 |
| ·激光全息光刻法 | 第68页 |
| ·双光子聚合法 | 第68-69页 |
| ·光子晶体的应用 | 第69-70页 |
| ·光子晶体光纤 | 第69页 |
| ·光子晶体微谐振腔 | 第69页 |
| ·高效率发光二极管和低阈值激光振荡 | 第69-70页 |
| ·高发射率小型微波天线 | 第70页 |
| ·高效率低损耗反射镜 | 第70页 |
| ·一维光子晶体研究进展 | 第70-72页 |
| ·一维光子晶体全向能隙 | 第71页 |
| ·一维光子晶体非线性研究 | 第71-72页 |
| ·论文的内容简介 | 第72-74页 |
| 2 含缺陷层一维光子晶体局域场特性分析 | 第74-85页 |
| ·光子晶体的理论计算方法 | 第74-75页 |
| ·平面波法 | 第74页 |
| ·差分或有限差分法 | 第74页 |
| ·转移矩阵法 | 第74页 |
| ·N阶法 | 第74-75页 |
| ·用传输矩阵法计算一维光子晶体的局域场 | 第75-77页 |
| ·含缺陷层一维光子晶体局域场特性 | 第77-84页 |
| ·周期 | 第77-78页 |
| ·缺陷 | 第78-81页 |
| ·缺陷层介质的折射率与消光系数 | 第79页 |
| ·缺陷模 | 第79-81页 |
| ·能带 | 第81-84页 |
| ·小结 | 第84-85页 |
| 3 含缺陷层一维光子晶体制备及其光学非线性测量技术 | 第85-88页 |
| ·含缺陷层一维光子晶体制备工艺 | 第85-86页 |
| ·介质层光学参数的确定 | 第85页 |
| ·介质层的制备工艺 | 第85-86页 |
| ·一维光子晶体的光学非线性测量技术 | 第86-88页 |
| 4 含单个缺陷层的TiO_2／SiO_2一维光子晶体研究 | 第88-98页 |
| ·缺陷模对光学非线性特性的影响 | 第88-92页 |
| ·光子带隙对光学非线性特性的影响 | 第92-97页 |
| ·小结 | 第97-98页 |
| 5 含双CdS缺陷层的FiO_2／SiO_2一维光子晶体研究 | 第98-103页 |
| ·双缺陷模一维光子晶体制备 | 第98-100页 |
| ·双缺陷模一维光子晶体的双光子吸收 | 第100-102页 |
| ·小结 | 第102-103页 |
| 6 一维光子晶体的若干问题研究 | 第103-112页 |
| ·斜入射下的TiO_2／SiO_2一维光子晶体 | 第103-107页 |
| ·含表面缺陷层的TiO_2／SiO_2一维光子晶体 | 第107-109页 |
| ·含单个厚缺陷层的多模TiO_2／SiO_2一维光子晶体 | 第109-111页 |
| ·小结 | 第111-112页 |
| 7 总结 | 第112-114页 |
| 8 参考文献 | 第114-118页 |
| 致谢 | 第118-119页 |
| 论文独创性声明 | 第119页 |
