镁合金表面微弧氧化工艺的研究
| 第一章 绪论 | 第1-17页 |
| ·镁及镁合金的应用和表面处理现状 | 第7-12页 |
| ·镁及其合金的特性 | 第7页 |
| ·镁及其合金的应用现状 | 第7-9页 |
| ·镁及其合金进行表面处理的原因及表面处理现状 | 第9-12页 |
| ·进行表面处理的原因 | 第9-10页 |
| ·表面处理现状 | 第10-12页 |
| ·微弧氧化技术的发展与研究现状 | 第12-15页 |
| ·研究概况 | 第12页 |
| ·微弧氧化机理 | 第12-13页 |
| ·膜层的制备方法 | 第13-14页 |
| ·影响膜层制备的因素 | 第14-15页 |
| ·本课题研究的意义及主要内容 | 第15-17页 |
| ·本课题研究的意义 | 第15-16页 |
| ·研究的主要内容 | 第16-17页 |
| 第二章 实验材料、方法与方案 | 第17-23页 |
| ·实验设备 | 第17-18页 |
| ·微弧氧化设备 | 第17页 |
| ·其他设备 | 第17-18页 |
| ·实验材料及试样制备 | 第18页 |
| ·材料的成分 | 第18页 |
| ·试样制备 | 第18页 |
| ·实验基本操作步骤 | 第18-19页 |
| ·前处理 | 第19页 |
| ·溶液配制 | 第19页 |
| ·微弧氧化 | 第19页 |
| ·测试 | 第19页 |
| ·实验方案 | 第19-21页 |
| ·微弧氧化处理液配方及优化实验方案 | 第19-21页 |
| ·工艺优化方案 | 第21页 |
| ·膜层的性能检测 | 第21-23页 |
| ·耐蚀性检测 | 第21页 |
| ·外观检测 | 第21-22页 |
| ·厚度检测 | 第22-23页 |
| 第三章 实验研究与分析 | 第23-55页 |
| ·溶液体系的研究 | 第23-39页 |
| ·铝酸盐体系 | 第23-30页 |
| ·铝酸盐体系配方微弧氧化实验结果 | 第23-28页 |
| ·结果与分析 | 第28-29页 |
| ·膜层的结构与相组成 | 第29-30页 |
| ·磷酸盐体系 | 第30-34页 |
| ·磷酸盐体系配方微弧氧化实验结果 | 第30-33页 |
| ·结果与分析 | 第33-34页 |
| ·相组成 | 第34页 |
| ·硅酸盐体系 | 第34-39页 |
| ·硅酸盐体系配方微弧氧化实验结果 | 第34-38页 |
| ·结果与分析 | 第38页 |
| ·相组成 | 第38-39页 |
| ·微弧氧化与未微弧氧化试样耐蚀性比较 | 第39页 |
| ·电解液配方优化结果总结 | 第39页 |
| ·电流密度的研究 | 第39-44页 |
| ·铝酸盐体系的电流密度实验结果与分析 | 第39-40页 |
| ·磷酸盐体系的电流密度实验结果与分析 | 第40-41页 |
| ·硅酸盐体系的电流密度实验结果与分析 | 第41-43页 |
| ·电流密度优化总结 | 第43-44页 |
| ·时间的研究 | 第44-48页 |
| ·铝酸盐体系时间实验的结果与分析 | 第44-45页 |
| ·磷酸盐体系时间实验的结果与分析 | 第45-46页 |
| ·硅酸盐体系时间实验的结果与分析 | 第46-48页 |
| ·时间优化总结 | 第48页 |
| ·频率、占空比的研究 | 第48-51页 |
| ·频率实验的结果与分析 | 第48-50页 |
| ·占空比实验的结果与分析 | 第50-51页 |
| ·频率、占空比研究总结 | 第51页 |
| ·实验结果综合分析 | 第51-55页 |
| ·陶瓷层生长规律分析 | 第51-52页 |
| ·陶瓷层耐蚀性分析 | 第52-53页 |
| ·工艺参数对陶瓷层耐蚀性能影响分析 | 第53-55页 |
| 第四章 微弧氧化机理的初探 | 第55-63页 |
| ·基本机理 | 第55-58页 |
| ·成膜过程机理初探 | 第58-63页 |
| ·膜的形成过程 | 第58-60页 |
| ·热力学条件 | 第60页 |
| ·热力学浅析 | 第60-61页 |
| ·陶瓷膜形成的动力学模型浅析 | 第61-63页 |
| 第五章 结论 | 第63-64页 |
| 第六章 深入工作及展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 附录 | 第70页 |
