| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-30页 |
| ·铝合金中的夹杂物 | 第9-12页 |
| ·夹杂物的类型 | 第9-11页 |
| ·夹杂物尺寸和含量的控制标准 | 第11-12页 |
| ·传统的去除工艺 | 第12-18页 |
| ·过滤 | 第13-16页 |
| ·熔体静置 | 第16-17页 |
| ·气体精炼 | 第17页 |
| ·熔剂精炼 | 第17-18页 |
| ·电磁净化技术的研究现状 | 第18-27页 |
| ·电磁分离的基础原理 | 第19-21页 |
| ·外加交变磁场作用下颗粒受到的作用力 | 第19-20页 |
| ·熔体内颗粒的迁移速度 | 第20-21页 |
| ·电磁净化的几种技术方案 | 第21-27页 |
| ·外加直流电流加正交稳恒磁场 | 第21-23页 |
| ·交变磁场 | 第23-24页 |
| ·交变电场 | 第24-25页 |
| ·行波磁场 | 第25-26页 |
| ·旋转磁场及电磁搅拌 | 第26页 |
| ·强磁场 | 第26-27页 |
| ·实验目的和研究内容 | 第27-30页 |
| ·电磁分离过程的动力学和运动学研究 | 第28页 |
| ·连续净化处理铝合金的基础和应用研究 | 第28页 |
| ·电磁连续净化处理过程中，分离效率的研究 | 第28页 |
| ·电磁场的均匀性研究 | 第28-29页 |
| ·电磁场引起流体扰动的本质分析与消除 | 第29-30页 |
| 第二章 夹杂颗粒的迁移行为的理论研究 | 第30-42页 |
| ·高频磁场感生磁场分离熔体中夹杂的基本原理 | 第30-31页 |
| ·实心圆柱状熔体中夹杂物的受力和运动分析 | 第31-35页 |
| ·实心圆柱状熔体内部磁场和涡流 | 第31-32页 |
| ·作用于熔体的电磁挤压力 | 第32-33页 |
| ·作用于球形非金属夹杂颗粒的电磁排斥力 | 第33-34页 |
| ·球形夹杂颗粒的迁移速度 | 第34页 |
| ·静止状态下熔体的电磁分离效率的理论分析 | 第34-35页 |
| ·线圈内磁场均匀化设计 | 第35-42页 |
| ·有限长理想螺线管线圈中磁场分布的理论计算 | 第36-39页 |
| ·影响线圈磁感应均匀性的因素和抑制其不良影响的方法 | 第39-40页 |
| ·赫姆霍茨螺线管线圈组合方式 | 第40-42页 |
| 第三章 高频磁场作用下的铝合金中非金属夹杂物的电磁分离的实验研究 | 第42-60页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·去除电气石颗粒的实验研究 | 第42-47页 |
| ·实验合金 | 第42-43页 |
| ·实验装置及过程 | 第43-47页 |
| ·铝液中夹杂物Al2O3的去除实验 | 第47-51页 |
| ·实验装置及合金配置 | 第47页 |
| ·电磁分离外加氧化铝颗粒的实验过程 | 第47-48页 |
| ·实验结果与讨论 | 第48-51页 |
| ·外加氧化铝颗粒的实际电磁净化效率 | 第48-49页 |
| ·工艺参数对氧化铝颗粒的净化效果的影响 | 第49-51页 |
| ·高频磁场去除铝合金中SiC颗粒的实验研究 | 第51-53页 |
| ·实验准备及实验过程 | 第51页 |
| ·电磁分离SiC夹杂颗粒的实验结果及分析 | 第51-53页 |
| ·颗粒尺寸对分离效果的影响 | 第51-52页 |
| ·作用时间的影响 | 第52-53页 |
| ·磁感应强度的影响 | 第53页 |
| ·过共晶Al-Si合金初生硅分离过程的初步探讨 | 第53-59页 |
| ·实验准备及过程 | 第53-54页 |
| ·实验结果分析 | 第54-59页 |
| ·圆管中初生硅相的迁移行为 | 第54-55页 |
| ·管径对分离效果的影响 | 第55-57页 |
| ·作用时间的影响 | 第57-58页 |
| ·磁感应强度的影响 | 第58-59页 |
| ·小结 | 第59-60页 |
| 第四章 线圈感生磁场的均匀化 | 第60-66页 |
| ·关于动态净化的一些实验设想 | 第60-61页 |
| ·关于工业应用的探讨 | 第61-62页 |
| ·连续净化的有关研究 | 第62-66页 |
| ·关于电磁连续净化的实验设想 | 第62-65页 |
| ·在铝合金垂直及水平连铸连轧生产中的应用 | 第65-66页 |
| 第五章 结论与展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 附录 | 第71页 |