MEMS用硅基永磁薄膜阵列设计与制备研究
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| 1．1 引言 | 第7页 |
| 1．2 军用MEMS技术研究现状 | 第7-9页 |
| 1．3 MEMS用永磁薄膜研究现状 | 第9-10页 |
| 1．4 本文主要工作 | 第10-11页 |
| 第二章 永磁薄膜阵列磁场的解析计算 | 第11-29页 |
| 2．1 磁学计算基本方程 | 第11-12页 |
| 2．2 各向异性等效场 | 第12页 |
| 2．3 物理模型 | 第12-14页 |
| 2．4 近似假设 | 第14-15页 |
| 2．5 永磁薄膜工作点的确定 | 第15-16页 |
| 2．6 退磁因子的计算 | 第16-17页 |
| 2．7 计算算法 | 第17-19页 |
| 2．8 磁力的计算 | 第19-20页 |
| 2．9 计算结果分析 | 第20-26页 |
| 2．10 结论 | 第26-29页 |
| 第三章 永磁薄膜阵列磁场的有限元分析 | 第29-41页 |
| 3．1 概述 | 第29-30页 |
| 3．2 有限元分析的磁学基础 | 第30-32页 |
| 3．2．1 边界条件 | 第30-31页 |
| 3．2．2 电磁场的位 | 第31-32页 |
| 3．3 各向异性磁场有限元原理 | 第32-34页 |
| 3．4 Newton－Raphson方法 | 第34页 |
| 3．5 有限元计算模型 | 第34-35页 |
| 3．6 有限元网格划分 | 第35-37页 |
| 3．7 计算结果分析 | 第37-39页 |
| 3．8 结论 | 第39-41页 |
| 第四章 各向异性永磁薄膜阵列制备 | 第41-57页 |
| 4．1 概述 | 第41-43页 |
| 4．2 电极过程 | 第43-44页 |
| 4．3 影响薄膜磁性能的因素 | 第44-45页 |
| 4．4 镀液的成分与作用 | 第45-46页 |
| 4．5 实验 | 第46-49页 |
| 4．6 实验结果 | 第49-54页 |
| 4．7 结论 | 第54-57页 |
| 第五章 研究结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
