| 第一章 绪论 | 第1-13页 |
| ·国内外机载天线布局和EMC的发展动态 | 第9-10页 |
| ·天线布局和电磁兼容理论 | 第10-12页 |
| ·课题的引入 | 第12-13页 |
| 第二章 几何绕射理论和射线追踪方法 | 第13-31页 |
| ·几何绕射理论概述 | 第13页 |
| ·边缘绕射 | 第13-16页 |
| ·射线追踪 | 第16-31页 |
| ·直接射线 | 第17-18页 |
| ·反射射线 | 第18-25页 |
| ·边缘绕射射线 | 第25-27页 |
| ·表面绕射射线 | 第27-30页 |
| ·复杂散射体上的射线追踪问题 | 第30-31页 |
| 第三章 飞机结构模型 | 第31-39页 |
| ·坐标系的建立 | 第31-32页 |
| ·飞机结构模型简述 | 第32-33页 |
| ·飞机结构的数学模型 | 第33-39页 |
| 第四章 机载平面螺旋天线方向图计算 | 第39-68页 |
| ·概述 | 第39页 |
| ·平面螺旋天线辐射场的计算 | 第39-43页 |
| ·概述 | 第39-40页 |
| ·平面螺旋天线辐射场的计算 | 第40-43页 |
| ·安装在机翼填角平面螺旋方向图的计算 | 第43-50页 |
| ·螺旋天线的直射场 | 第45页 |
| ·直射场在Q_1点的绕射场 | 第45-46页 |
| ·Q_2的绕射场 | 第46页 |
| ·Q_1点的一次绕射场在Q_3点产生的二次绕射场 | 第46-47页 |
| ·直射场在左金属平板的反射场 | 第47-48页 |
| ·Q_2点的绕射场在Q_5(Q_1)点的二次绕射场 | 第48页 |
| ·Q_2点的绕射场(E_2~d)在左平板的反射场 | 第48-50页 |
| ·装在垂尾平面螺旋天线方向图的计算 | 第50-54页 |
| ·Q_1点的绕射场 | 第51页 |
| ·Q_1点的绕射场在Q_3点引起的二次绕射场 | 第51-52页 |
| ·Q_2点的绕射场 | 第52-53页 |
| ·侧壁的反射场 | 第53-54页 |
| ·腔体对平面螺旋天线辐射特性的影响 | 第54-68页 |
| A1 概述 | 第54-56页 |
| A2 直射场及直射场有关的绕射场和反射场 | 第56-61页 |
| A2.1 直射场E_i | 第56-57页 |
| A2.2 直射场在1点产生的绕射场E_1~d | 第57-58页 |
| A2.3 直射场在2点产生的绕射场E_2~d | 第58-59页 |
| A2.4 2点的绕射场E_2~d在1点产生的二次绕射场E_(12)~d到达1点的入射场E_(12)~i | 第59页 |
| A2.5 直射场在左侧壁的反射场E_L~r | 第59-60页 |
| A2.6 E_L~r在1点产生的绕射场E_(1L)~d | 第60-61页 |
| A3 腔体底面反射场及有关绕射场 | 第61-64页 |
| A3.1 底面一次反射至场点的反射场E_(DR)~r | 第61-62页 |
| A3.2 反射场E_(DR)~r在1点产生的一次绕射场E_(1DR)~d | 第62页 |
| A3.3 反射场E_(DL)~r在2点产生的一次绕射场E_(2DL)~d | 第62-63页 |
| A3.4 一次绕射场E_(2DL)~d在1点产生的二次绕射场E_(12DL)~d | 第63页 |
| A3.5 腔底反射场在左侧壁的反射场E_(LD)~r | 第63-64页 |
| A4 带腔平面螺旋天线焦散区辐射场计算 | 第64-66页 |
| A4.1 等效边缘电磁流的入射场 | 第65-66页 |
| A4.2 求解D_h、D_s的有关参数 | 第66页 |
| A5 带腔平面螺旋天线的总辐射场 | 第66-68页 |
| 第五章 结论 | 第68-73页 |
| ·软件设计 | 第68-69页 |
| ·软件描述 | 第68页 |
| ·软件结构及处理流程 | 第68-69页 |
| ·模块设计 | 第69页 |
| ·计算结果分析 | 第69-73页 |
| ·方向图说明 | 第69-72页 |
| ·局限性 | 第72页 |
| ·本软件存在的不足主要表现 | 第72-73页 |
| 附录A 流程图 | 第73-85页 |
| 参考文献 | 第85-86页 |
| 结束语 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87页 |
