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LEC法砷化镓晶体生长中熔体流动与传热传质数值模拟

摘要第1-4页
ABSTRACT第4-10页
1 绪论第10-19页
   ·问题的提出及研究意义第10-15页
     ·砷化镓晶体与溶质分凝效应第11-13页
     ·液封直拉法(LEC 法)第13-14页
     ·双坩埚LEC 法第14-15页
   ·国内外研究现状第15-17页
     ·LEC 法GaAs 单晶生长中掺杂物分凝效应的研究现状第15页
     ·液封直拉法(LEC 法)研究现状第15-17页
     ·双坩埚LEC 法研究现状第17页
   ·课题研究内容第17-19页
2 液封直拉法物理模型和数学模型第19-25页
   ·引言第19页
   ·物理模型第19-20页
   ·数学模型第20-24页
     ·基本控制方程第21页
     ·边界条件第21-23页
     ·低雷诺数κ-ε湍流模型第23-24页
   ·本章小结第24-25页
3 双坩埚LEC 法物理模型和数学模型第25-29页
   ·引言第25页
   ·物理模型第25-26页
   ·数学模型第26-28页
     ·基本控制方程第26-27页
     ·边界条件第27-28页
   ·本章小结第28-29页
4 计算方法第29-39页
   ·引言第29页
   ·FLUENT 软件介绍第29页
   ·FLUENT 解决问题的步骤第29-30页
     ·GAMBIT第29-30页
     ·FLUENT第30页
   ·计算过程第30-38页
     ·有限容积法简介第30-31页
     ·FLUENT 中的格式选择第31-37页
     ·网格检验第37-38页
     ·数学模型和计算方法正确性验证第38页
   ·本章小结第38-39页
5 液封直拉法晶体生长熔体输运结果分析第39-48页
   ·晶体转速的影响第39-42页
   ·坩埚转速的影响第42-44页
   ·坩埚侧壁与晶体生长界面温差的影响第44-46页
   ·本章小结第46-48页
6 双坩埚LEC 法晶体生长熔体输运结果分析第48-57页
   ·晶体转速的影响第48-50页
   ·内坩埚转速的影响第50-52页
   ·外坩埚转速的影响第52-54页
   ·典型工况下 Si 的物质输运第54-56页
   ·本章小结第56-57页
7 结论与展望第57-59页
   ·主要结论第57页
   ·工作展望第57-59页
致谢第59-60页
参考文献第60-65页
附录第65页

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