摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-14页 |
第一章 绪论 | 第14-44页 |
·嵌段共聚物 | 第14页 |
·嵌段共聚物自组装 | 第14-20页 |
·嵌段共聚物在溶液中的自组装 | 第15-18页 |
·嵌段共聚物在薄膜中的自组装 | 第18-20页 |
·嵌段共聚物薄膜中自组装纳米图案的取向控制方法 | 第20-27页 |
·基底表面改性 | 第20-23页 |
·热退火 | 第23-24页 |
·溶剂退火 | 第24-26页 |
·其它方法 | 第26-27页 |
·位置尺寸可控纳米图案的制备方法 | 第27-33页 |
·电子束蚀刻技术(EBL) | 第27-28页 |
·纳米球蚀刻技术(NSL) | 第28-30页 |
·纳米压印技术(NIL) | 第30-31页 |
·嵌段共聚物蚀刻技术(BCPL) | 第31-33页 |
·嵌段共聚物蚀刻技术的应用 | 第33-41页 |
·有机无机纳米粒子图案 | 第33-37页 |
·有序可控纳米线阵列 | 第37-39页 |
·纳米器件 | 第39-41页 |
·本课题的研究思路和研究内容 | 第41-44页 |
·研究思路 | 第41-42页 |
·研究内容 | 第42-44页 |
第二章 实验材料及测试方法 | 第44-48页 |
·实验材料与化学试剂 | 第44-45页 |
·实验仪器和设备 | 第45-46页 |
·实验表征仪器 | 第46-48页 |
·扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope, SEM) | 第46页 |
·能量扩散X 射线谱仪(Energy-dispersive X-ray Spectroscopy, EDX) | 第46页 |
·原子力显微镜(Atomic Force Microscopy, AFM) | 第46页 |
·透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope, TEM) | 第46-47页 |
·X 射线衍射仪(X-Ray Diffraction, XRD) | 第47页 |
·X 射线光电子谱仪(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS) | 第47页 |
·光谱型椭偏仪(Spectroscopic Ellipsometers) | 第47-48页 |
第三章 PS-b-P4VP 自组装纳米相形态和性能研究及有序纳米孔薄膜的制备 | 第48-62页 |
·引言 | 第48页 |
·实验部分 | 第48-50页 |
·溶液法制备嵌段共聚物薄膜 | 第48-49页 |
·嵌段共聚物多孔纳米膜的制备 | 第49页 |
·胶束法制备嵌段共聚物多孔纳米膜 | 第49页 |
·嵌段共聚物有序柱状薄膜对Ag 纳米粒子的吸附 | 第49-50页 |
·测试与表征 | 第50页 |
·结果与讨论 | 第50-60页 |
·溶液法制备嵌段共聚物薄膜 | 第50-51页 |
·嵌段共聚物多孔纳米膜的制备 | 第51-54页 |
·胶束法制备嵌段共聚物多孔纳米膜的相形态 | 第54-55页 |
·嵌段共聚物溶液浓度的影响 | 第55-57页 |
·均聚物的影响 | 第57-59页 |
·PS-b-P4VP 柱状薄膜对银纳米粒子的吸附 | 第59-60页 |
·本章小结 | 第60-62页 |
第四章 PS-b-P4VP 柱状薄膜为纳米反应器制纳米粒子阵列的方法及普适性研究 | 第62-79页 |
·引言 | 第62-63页 |
·实验部分 | 第63-64页 |
·PS-b-P4VP 有序柱状纳米薄膜的制备 | 第63页 |
·嵌段共聚物薄膜中P4VP 微相尺寸和间距的调整 | 第63页 |
·有序Au 纳米粒子阵列的制备 | 第63页 |
·有序ZnO 纳米粒子阵列的制备 | 第63-64页 |
·有序Fe_xO_y 纳米粒子阵列的制备 | 第64页 |
·测试与表征 | 第64页 |
·结果与讨论 | 第64-77页 |
·有序纳米粒子阵列形成机理 | 第64-65页 |
·有序Au 纳米粒子阵列的制备 | 第65-69页 |
·Au 纳米粒子阵列的调控 | 第69-71页 |
·PS-b-P4VP 柱状薄膜为纳米反应器制备有序纳米粒子阵列的普适性 | 第71-77页 |
·本章小结 | 第77-79页 |
第五章 PS-b-P4VP 有序柱状薄膜结构重置法原位合成有序纳米环阵列的研究 | 第79-92页 |
·引言 | 第79-80页 |
·实验部分 | 第80-82页 |
·PS-b-P4VP 有序柱状纳米薄膜的制备 | 第80页 |
·ZnO 纳米环有序阵列的制备 | 第80-81页 |
·Ti0_2 纳米环有序阵列的制备 | 第81页 |
·Fe_20_3 纳米环有序阵列的制备 | 第81页 |
·Au 纳米环有序阵列的制备 | 第81-82页 |
·测试与表征 | 第82页 |
·结果与讨论 | 第82-91页 |
·有序纳米环阵列的形成机理 | 第82-83页 |
·PS-b-P4VP 嵌段共聚物薄膜的结构重置 | 第83-85页 |
·ZnO 纳米环有序阵列的制备 | 第85-87页 |
·Ti0_2 纳米环有序阵列的制备 | 第87-88页 |
·Fe_20_3 纳米环有序阵列的制备 | 第88-89页 |
·Au 纳米环有序阵列的制备 | 第89-90页 |
·盐类前躯体浓度对纳米环结构形成的影响 | 第90-91页 |
·本章小结 | 第91-92页 |
第六章 选择性重组装PS-b-P4VP 薄膜制备有机-无机复合纳米结构阵列的研究 | 第92-102页 |
·引言 | 第92-93页 |
·实验部分 | 第93-94页 |
·疏水性金纳米粒子的合成 | 第93页 |
·PS-b-P4VP 薄膜的制备 | 第93页 |
·PS-b-P4VP 聚合物纳米岛和纳米环阵列的制备 | 第93页 |
·氯仿为溶剂制备Au/PS-b-P4VP 复合纳米环阵列 | 第93-94页 |
·甲苯为溶剂制备Au/PS-b-P4VP 复合薄膜 | 第94页 |
·测试与表征 | 第94页 |
·结果与讨论 | 第94-101页 |
·有机纳米环与有机-无机复合纳米环阵列的形成机理 | 第94-96页 |
·PS-b-P4VP 聚合物纳米岛和纳米环阵列的制备 | 第96-97页 |
·PS-b-P4VP 聚合物纳米环阵列的调控 | 第97-98页 |
·有机-无机复合纳米环阵列的制备 | 第98-101页 |
·本章小结 | 第101-102页 |
结论与展望 | 第102-106页 |
参考文献 | 第106-123页 |
攻读博士学位期间取得的研究成果 | 第123-125页 |
致谢 | 第125-126页 |
附件 | 第126页 |