超声喷雾热解法制备SnO2：F薄膜及性能分析
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 前言 | 第8-12页 |
| ·几种透明导电薄膜简介 | 第8-10页 |
| ·ZnO薄膜 | 第8-9页 |
| ·In_2O_3薄膜 | 第9-10页 |
| ·SnO_2薄膜 | 第10页 |
| ·论文的研究目标和主要内容 | 第10-12页 |
| 2 SnO_2导电薄膜 | 第12-29页 |
| ·SnO_2薄膜特性 | 第12-13页 |
| ·SnO_2薄膜晶体结构 | 第12页 |
| ·SnO_2薄膜光电特性 | 第12-13页 |
| ·SnO_2薄膜物理化学特性 | 第13页 |
| ·掺杂SnO_2薄膜的导电机理 | 第13-21页 |
| ·半导体的导电机理 | 第13-14页 |
| ·半导体中电子的运输 | 第14-15页 |
| ·半导体的电子散射机制 | 第15-20页 |
| ·掺锑、氟SnO_2薄膜的导电机理 | 第20-21页 |
| ·薄膜生长 | 第21-22页 |
| ·薄膜生长的三种模式 | 第21页 |
| ·薄膜生长的阶段 | 第21-22页 |
| ·掺杂SnO_2薄膜材料的常用制备方法 | 第22-26页 |
| ·化学气相沉积法 | 第22-23页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第23页 |
| ·喷雾热解法 | 第23-26页 |
| ·SnO_2薄膜的应用 | 第26-28页 |
| ·太阳能电池 | 第26-27页 |
| ·光电子器件 | 第27页 |
| ·透明电极 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 3 超声喷雾热解法制备SnO_2:F透明导电薄膜 | 第29-43页 |
| ·喷雾热解法制备薄膜的原理 | 第29页 |
| ·实验装置 | 第29-30页 |
| ·薄膜性能测试技术 | 第30-32页 |
| ·薄膜结构和表面形貌的测量 | 第30页 |
| ·方阻的测量 | 第30-31页 |
| ·光透过率的测量 | 第31页 |
| ·膜厚的测量 | 第31-32页 |
| ·测试SnO_2:F薄膜方阻随温度变化的实验电路 | 第32页 |
| ·正交设计方法在薄膜制备中的应用 | 第32-36页 |
| ·正交设计方法介绍 | 第32-34页 |
| ·正交方法设计实验 | 第34-35页 |
| ·超声喷雾热解法制备SnO_2:F薄膜的步骤 | 第35-36页 |
| ·正交方法分析实验结果 | 第36-42页 |
| ·回归分析 | 第39-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 4 SnO_2:F薄膜性能研究 | 第43-55页 |
| ·影响SnO_2:F薄膜性能的工艺参数 | 第43-46页 |
| ·基底温度对薄膜光透过率和方阻的影响 | 第43-44页 |
| ·喷涂时间对薄膜光透过率和方阻的影响 | 第44页 |
| ·F掺杂量对薄膜光透过率和方阻的影响 | 第44-45页 |
| ·酒精浓度对薄膜光透过率和方阻的影响 | 第45-46页 |
| ·薄膜性能测试 | 第46-48页 |
| ·发热功率测试 | 第46-47页 |
| ·结合强度测试 | 第47页 |
| ·化学稳定性测试 | 第47页 |
| ·热稳定性测试 | 第47页 |
| ·表面形貌测试 | 第47-48页 |
| ·薄膜方阻-温度分析 | 第48-53页 |
| ·SPSS软件 | 第48-49页 |
| ·方阻为62Ω的SnO_2:F薄膜热稳定性分析 | 第49-51页 |
| ·方阻为95Ω的SnO_2:F薄膜热稳定性分析 | 第51页 |
| ·方阻为91Ω的SnO_2:F薄膜热稳定性分析 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 5 总结 | 第55-56页 |
| ·本文研究工作总结 | 第55页 |
| ·未来工作展望 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 附录 | 第61页 |
