多孔型Al2O3薄膜阳极氧化的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-17页 |
| ·课题背景 | 第10-13页 |
| ·阳极氧化概述 | 第10-11页 |
| ·多孔氧化铝膜的制备工艺流程 | 第11-12页 |
| ·多孔阳极氧化铝膜的形成机理 | 第12-13页 |
| ·国内外研究发展现状 | 第13-15页 |
| ·国外研究现状 | 第13-14页 |
| ·国内研究现状 | 第14-15页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第15-16页 |
| ·课题来源及本文主要研究内容 | 第16-17页 |
| ·课题来源 | 第16页 |
| ·本文主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第2章 基于铝片的多孔氧化铝膜的制备 | 第17-26页 |
| ·基于铝片多孔氧化铝膜的制备 | 第17-19页 |
| ·实验仪器及材料 | 第17-18页 |
| ·铝片预处理 | 第18页 |
| ·铝片的阳极氧化 | 第18-19页 |
| ·多孔型氧化铝膜的表征 | 第19-25页 |
| ·退火对多孔型氧化铝膜的影响 | 第19-20页 |
| ·磷酸浸泡对多孔氧化铝膜的影响 | 第20-23页 |
| ·不同电解液对多孔氧化膜的影响 | 第23-24页 |
| ·多孔氧化铝膜的截面分析 | 第24-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 基于铝膜的多孔氧化铝膜的制备 | 第26-40页 |
| ·镀膜原理与特点 | 第26-28页 |
| ·磁控溅射镀膜原理及特点 | 第26-27页 |
| ·真空蒸镀原理与特点 | 第27-28页 |
| ·铝膜的制备过程 | 第28-32页 |
| ·仪器设备、原材料及工艺环境要求 | 第28-29页 |
| ·磁控溅射铝膜的制备过程 | 第29-30页 |
| ·真空蒸发镀铝膜的制备过程 | 第30-32页 |
| ·铝膜预处理 | 第32页 |
| ·铝膜的阳极氧化 | 第32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-38页 |
| ·溅射铝膜阳极氧化的讨论 | 第32-35页 |
| ·蒸发铝膜阳极氧化的讨论 | 第35-37页 |
| ·溅射铝膜和蒸发铝膜阳极氧化后的比较 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第4章 铝膜形成及阳极氧化机理 | 第40-48页 |
| ·铝膜的形成与生长 | 第40-41页 |
| ·阳极氧化的电流密度特征 | 第41-43页 |
| ·阳极氧化机理的讨论 | 第43-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-54页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
