| 摘要 | 第3-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 纳米半导体材料 | 第9-10页 |
| 1.2 锌基纳米半导体材料 | 第10-16页 |
| 1.2.1 ZnO和ZnS基本性质 | 第10-11页 |
| 1.2.2 ZnO和ZnS晶体结构 | 第11-12页 |
| 1.2.3 纳米ZnO和纳米ZnS制备方法 | 第12-14页 |
| 1.2.4 纳米ZnO和纳米ZnS表征手段 | 第14-15页 |
| 1.2.5 场发射(FED) | 第15-16页 |
| 1.3 纳米ZnO及其复合半导体材料的研究现状 | 第16-17页 |
| 1.4 课题研究的意义和主要内容 | 第17-19页 |
| 第二章 正交实验和工艺理论 | 第19-22页 |
| 2.1 正交实验理论 | 第19页 |
| 2.2 基片的选择依据和处理工艺 | 第19页 |
| 2.3 常用的镀膜工艺 | 第19-20页 |
| 2.4 真空热处理工艺 | 第20-22页 |
| 第三章 纳米ZnO的可控合成及其场发射特性研究 | 第22-32页 |
| 3.1 实验部分 | 第22-25页 |
| 3.1.1 实验材料与设备 | 第22-23页 |
| 3.1.2 纳米ZnO制备工艺 | 第23-25页 |
| 3.1.3 纳米ZnO的表征手段 | 第25页 |
| 3.2 电泳法合成纳米ZnO涂层及其场发射特性 | 第25-29页 |
| 3.2.1 纳米ZnO的物相分析 | 第25-26页 |
| 3.2.2 纳米ZnO的形貌分析 | 第26-28页 |
| 3.2.3 纳米ZnO的场发射性能分析 | 第28-29页 |
| 3.3 旋涂法合成纳米ZnO涂层及其场发射特性 | 第29-31页 |
| 3.3.1 纳米ZnO的形貌分析 | 第29-30页 |
| 3.3.2 纳米ZnO的场发射性能分析 | 第30-31页 |
| 3.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 低温可控合成Mn/ZnO及其光学性能 | 第32-38页 |
| 4.1 Mn/ZnO可控合成实验 | 第32-33页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第33-37页 |
| 4.2.1 Mn掺杂ZnO的物相分析 | 第33-35页 |
| 4.2.2 Mn掺杂ZnO的形貌分析 | 第35页 |
| 4.2.3 Mn掺杂ZnO的光学性能分析 | 第35-37页 |
| 4.3 本章小结 | 第37-38页 |
| 第五章 纳米ZnO/ZnS复合材料的制备与发光特性 | 第38-46页 |
| 5.1 实验部分 | 第38-40页 |
| 5.1.1 实验所需药品和仪器 | 第38-39页 |
| 5.1.2 ZnO/ZnS复合物的制备工艺 | 第39-40页 |
| 5.1.3 ZnO/ZnS复合物的表征与测试 | 第40页 |
| 5.2 结果与分析 | 第40-45页 |
| 5.2.1 ZnO/ZnS的物相分析 | 第40-41页 |
| 5.2.2 ZnO/ZnS的形貌分析 | 第41-42页 |
| 5.2.3 ZnO/ZnS的生长机理分析 | 第42-43页 |
| 5.2.4 ZnO/ZnS的光学性质分析 | 第43-45页 |
| 5.3 本章小结 | 第45-46页 |
| 第六章 总结与展望 | 第46-48页 |
| 6.1 工作总结 | 第46-47页 |
| 6.2 工作展望 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 攻读硕士学位期间的主要学术成果 | 第56-57页 |