| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第1章 引言 | 第9-29页 |
| 1.1 气敏传感器 | 第9-13页 |
| 1.1.1 气敏传感器分类 | 第10-11页 |
| 1.1.2 气敏传感器的主要参数 | 第11-13页 |
| 1.2 NO_2气敏材料 | 第13-17页 |
| 1.2.1 硅基NO_2气敏材料 | 第14-15页 |
| 1.2.2 金属氧化物NO_2气敏材料 | 第15-16页 |
| 1.2.3 有机物NO_2气敏材料 | 第16-17页 |
| 1.3 多孔硅纳米线 | 第17-24页 |
| 1.3.1 多孔硅纳米线的制备原理 | 第18-20页 |
| 1.3.2 多孔硅纳米线的性能与应用 | 第20-22页 |
| 1.3.3 多孔硅纳米线的NO_2气敏原理 | 第22-24页 |
| 1.4 改善气敏性能的方法 | 第24-27页 |
| 1.4.1 掺杂 | 第24页 |
| 1.4.2 表面修饰 | 第24-25页 |
| 1.4.3 复合结构 | 第25-27页 |
| 1.5 研究意义与思路 | 第27-29页 |
| 第2章 材料制备与分析方法 | 第29-36页 |
| 2.1 制备方法 | 第29-31页 |
| 2.1.1 多孔硅纳米线的制备方法 | 第29页 |
| 2.1.2 ZnO纳米柱/多孔硅纳米线复合结构的制备 | 第29-31页 |
| 2.1.3 Cu纳米颗粒修饰多孔硅纳米线的制备 | 第31页 |
| 2.2 分析方法 | 第31-33页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜 | 第31-32页 |
| 2.2.2 透射电子显微镜 | 第32页 |
| 2.2.3 X射线光电子能谱 | 第32页 |
| 2.2.4 能量色散X射线光谱 | 第32页 |
| 2.2.5 X射线衍射分析 | 第32-33页 |
| 2.2.6 光致发光光谱 | 第33页 |
| 2.3 气敏性能测试 | 第33-36页 |
| 2.3.1 气敏测试装置 | 第33-34页 |
| 2.3.2 气敏性能检测步骤 | 第34-35页 |
| 2.3.3 气敏测试过程的湿度监控 | 第35-36页 |
| 第3章 多孔硅纳米线的NO_2气敏性能 | 第36-43页 |
| 3.1 多孔硅纳米线的形貌特征 | 第36-38页 |
| 3.2 多孔硅纳米线的表面价态分析 | 第38-39页 |
| 3.3 多孔硅纳米线的NO_2气敏性能 | 第39-41页 |
| 3.3.1 不同长度多孔硅纳米线的气敏性能 | 第39-40页 |
| 3.3.2 多孔硅纳米线对不同浓度NO_2的气敏响应 | 第40-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 第4章 ZnO纳米柱/多孔硅纳米线复合结构的NO_2气敏性能 | 第43-54页 |
| 4.1 ZnO纳米柱/PSiNWs复合结构的形貌特征 | 第44-46页 |
| 4.2 ZnO纳米柱/PSiNWs复合结构材料的元素与价态分析 | 第46-47页 |
| 4.3 ZnO纳米柱/PSiNWs复合结构材料的气敏性能分析 | 第47-50页 |
| 4.3.1 ZnO纳米柱/PSiNWs复合结构对不同浓度NO_2的响应 | 第48-49页 |
| 4.3.2 ZnO纳米柱/PSiNWs复合结构的气敏选择性 | 第49-50页 |
| 4.4 ZnO纳米柱/PSiNWs复合结构的气敏响应机理 | 第50-53页 |
| 4.4.1 能带效应 | 第50-52页 |
| 4.4.2 氧空位浓度效应 | 第52-53页 |
| 4.5 本章小结 | 第53-54页 |
| 第5章 Cu~(2+)改性对多孔硅纳米线NO_2气敏性能的影响 | 第54-65页 |
| 5.1 Cu~(2+)改性后多孔硅纳米线的形貌特征 | 第54-55页 |
| 5.2 Cu~(2+)改性后多孔硅纳米线的元素与价态分析 | 第55-59页 |
| 5.3 Cu~(2+)改性后多孔硅纳米线的气敏性能分析 | 第59-61页 |
| 5.4 Cu~(2+)调控多孔硅纳米线气敏性能的原理 | 第61-63页 |
| 5.5 本章小结 | 第63-65页 |
| 第6章 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 致谢 | 第72-74页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第74-75页 |
