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高光束质量激光外腔合束技术研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第17-39页
    1.1 研究背景及意义第17-19页
    1.2 高光束质量半导体单元器件的研究进展第19-25页
        1.2.1 横向模式的抑制进展第19-20页
        1.2.2 侧向模式的抑制进展第20-25页
    1.3 半导体激光器基于多波长合束研究进展第25-34页
        1.3.1 WMD合束技术第26-28页
        1.3.2 光谱合束技术第28-34页
    1.4 半导体激光器基于相干合束的研究进展第34-37页
        1.4.1 基于Dammann光栅的相干合束第34-35页
        1.4.2 基于迈克尔逊腔的相干合束第35-36页
        1.4.3 基于Talbot效应相干合束第36-37页
    1.5 论文主要工作及安排第37-39页
第2章 半导体激光器输出特性及光束整形原理第39-53页
    2.1 引言第39页
    2.2 半导体激光器的工作原理及输出特性第39-44页
        2.2.1 阈值条件第39-43页
        2.2.2 斜率效率第43-44页
        2.2.3 外微分量子效率第44页
    2.3 半导体激光器的光束特性及评价标准第44-49页
        2.3.1 输出光斑的评价标准第44-46页
        2.3.2 远场发散角评价标准第46-47页
        2.3.3 光束质量的定义和评价标准第47-48页
        2.3.4 亮度的定义和评价标准第48-49页
    2.4 光束整形原理第49-52页
        2.4.1 快慢轴准直第49-51页
        2.4.2 BTM(Beam transformation mirror)镜组整形第51页
        2.4.3 棱镜或反射镜的整形系统第51-52页
    2.5 本章小结第52-53页
第3章 外腔光谱合束理论及输出特性研究第53-71页
    3.1 引言第53页
    3.2 外腔基本原理第53-56页
    3.3 外腔理论建模第56-61页
        3.3.1 模式增益条件第56-59页
        3.3.2 外腔效率的局限性第59-61页
    3.4 输出特性分析第61-69页
        3.4.1 输出功率及阈值特性分析第61-66页
        3.4.2 效率特性分析第66-67页
        3.4.3 光束质量和稳定性第67-69页
    3.5 本章小结第69-71页
第4章 基于光子带隙激光器的外腔光谱合束第71-87页
    4.1 引言第71页
    4.2 光子带隙半导体激光器第71-75页
        4.2.1 基本原理第71-72页
        4.2.2 单量子阱光子带隙激光器第72-74页
        4.2.3 双量子阱光子带隙激光器第74-75页
    4.3 窄化光谱合束系统第75-80页
        4.3.1 光学设计第75-77页
        4.3.2 机械设计第77-78页
        4.3.3 实验及结果分析第78-80页
    4.4 超越单元器件光束质量的外腔光谱合束系统第80-86页
    4.5 本章小结第86-87页
第5章 高光束质量半导体激光器阵列离轴反馈外腔合束第87-107页
    5.1 离轴外腔反馈理论第87-88页
    5.2 基于D形镜和双光阑外腔反馈系统第88-96页
        5.2.1 基于D形镜离轴外腔反馈系统第88-93页
        5.2.2 基于双光阑外腔反馈系统第93-96页
    5.3 基于单Bar条高光束质量离轴反馈系统及分析第96-102页
        5.3.1 基于单bar条选择性离轴反馈系统第96-100页
        5.3.2 基于单bar条选择性离轴反馈和BES光谱合束输出性能分析第100-102页
    5.4 基于选择性反馈V型腔三Bar条高光束质量合束系统第102-105页
    5.5 本章小结第105-107页
第6章 相干合束二元衍射光栅的研究第107-119页
    6.1 研究背景第107页
    6.2 相干合束原理第107-108页
    6.3 相干光栅优化设计第108-114页
        6.3.1 基于标量衍射理论第108-110页
        6.3.2 基于严格耦合波理论第110-114页
    6.4 相干光栅的制备及合束系统搭建第114-117页
        6.4.1 相干光栅制备第114-116页
        6.4.2 相干系统搭建第116-117页
    6.5 本章小结第117-119页
第7章 总结与展望第119-121页
    7.1 全文总结第119-120页
    7.2 主要创新点第120页
    7.3 展望第120-121页
参考文献第121-131页
致谢第131-133页
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果第133-134页

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