| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 光催化原理简述 | 第11-13页 |
| 1.3 影响光催化效率的因素 | 第13-14页 |
| 1.3.1 禁带宽度与能级位置 | 第13页 |
| 1.3.2 光生电子-空穴对的分离 | 第13页 |
| 1.3.3 晶体结构与缺陷 | 第13-14页 |
| 1.3.4 pH | 第14页 |
| 1.3.5 共存离子的影响 | 第14页 |
| 1.4 石墨相氮化碳概述 | 第14-16页 |
| 1.4.1 氮化碳的研究进程 | 第14-15页 |
| 1.4.2 石墨相氮化碳的结构和性质 | 第15-16页 |
| 1.4.3 石墨相氮化碳的制备 | 第16页 |
| 1.5 改性石墨相氮化碳的研究进展 | 第16-19页 |
| 1.5.1 形貌调控 | 第16-17页 |
| 1.5.2 金属沉积 | 第17页 |
| 1.5.3 非金属掺杂 | 第17-18页 |
| 1.5.4 半导体复合 | 第18-19页 |
| 1.5.5 光敏化 | 第19页 |
| 1.6 本论文选题意义及研究内容 | 第19-21页 |
| 2 实验部分 | 第21-27页 |
| 2.1 实验试剂及仪器 | 第21-22页 |
| 2.2 催化剂的制备 | 第22-23页 |
| 2.2.1 体相SCN和SCNNS-x纳米片的制备 | 第22-23页 |
| 2.2.2 体相PCN和多孔PCNS纳米片的制备 | 第23页 |
| 2.3 表征方法 | 第23-25页 |
| 2.4 催化剂的光催化性能分析 | 第25-26页 |
| 2.4.1 光催化反应的装置及流程 | 第25页 |
| 2.4.2 光催化实验 | 第25-26页 |
| 2.5 分析测量方法 | 第26-27页 |
| 3 一步合成硫掺杂的石墨相氮化碳纳米片及其光催化性能研究 | 第27-44页 |
| 3.1 引言 | 第27-28页 |
| 3.2 表征分析结果 | 第28-38页 |
| 3.2.1 TOF-MS分析 | 第28-29页 |
| 3.2.2 X射线衍射分析(XRD) | 第29-30页 |
| 3.2.3 傅里叶红外光谱(FT-IR)分析 | 第30-31页 |
| 3.2.4 热重(TG)分析 | 第31-32页 |
| 3.2.5 透射电子显微镜(TEM)以及EDS能谱分析 | 第32-33页 |
| 3.2.6 原子力显微镜(AFM)分析 | 第33页 |
| 3.2.7 N_2吸附-脱附分析 | 第33-34页 |
| 3.2.8 元素分析 | 第34-35页 |
| 3.2.9 XPS分析 | 第35页 |
| 3.2.10 紫外-可见漫反射光谱(UV-vis)和能带位置分析 | 第35-37页 |
| 3.2.11 光电流分析 | 第37-38页 |
| 3.3 材料的光催化性能研究 | 第38-42页 |
| 3.3.1 光催化固氮 | 第38-40页 |
| 3.3.2 光催化降解抗生素 | 第40-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-44页 |
| 4 磷掺杂的多孔石墨相氮化碳纳米片的制备及其可见光催化性能的研究 | 第44-58页 |
| 4.1 前言 | 第44-45页 |
| 4.2 催化剂表征结果分析 | 第45-52页 |
| 4.2.1 X射线衍射分析(XRD) | 第45页 |
| 4.2.2 傅里叶红外光谱(FT-IR)分析 | 第45-46页 |
| 4.2.3 XPS能谱分析 | 第46-47页 |
| 4.2.4 TEM分析 | 第47-48页 |
| 4.2.5 N_2吸附-脱附分析 | 第48-49页 |
| 4.2.6 紫外-可见漫反射光谱(UV-vis)和能带位置分析 | 第49-50页 |
| 4.2.7 荧光光谱(PL)分析 | 第50-51页 |
| 4.2.8 光电流分析 | 第51-52页 |
| 4.3 材料的光催化性能的研究 | 第52-56页 |
| 4.3.1 光催化固氮实验 | 第52-53页 |
| 4.3.2 光催化降解磺胺噻唑实验 | 第53-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 5 结论与展望 | 第58-60页 |
| 5.1 结论 | 第58页 |
| 5.2 课题展望 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-70页 |
| 附录 | 第70页 |
