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KDP晶体“二维平动法”生长及其性能研究

中文摘要第3-4页
ABSTRACT第4-5页
主要符号表第9-10页
1 绪论第10-18页
    1.1 引言第10页
    1.2 KDP晶体研究意义第10-11页
    1.3 研究现状第11-15页
        1.3.1 KDP生长方法第11-13页
        1.3.2 传统“点籽晶”生长法的问题第13-14页
        1.3.3 晶体质量的研究第14-15页
    1.4 本课题研究的内容第15-18页
2 晶体生长热力学理论及测定溶液溶解度曲线和亚稳区第18-32页
    2.1 相变第18-23页
        2.1.1 发生相变的热力学条件第18-20页
        2.1.2 相变驱动力第20页
        2.1.3 均匀成核第20-22页
        2.1.4 非均匀成核第22-23页
    2.2 溶解度曲线测定第23-26页
        2.2.1 实验试剂及仪器第23-24页
        2.2.2 实验步骤第24-25页
        2.2.3 实验结果与讨论第25-26页
    2.3 溶液亚稳区测定第26-29页
        2.3.1 亚稳区宽度测定第27页
        2.3.2 实验步骤第27页
        2.3.3 实验结果与讨论第27-29页
    2.4 小结第29-32页
3 晶体生长的动力学分析及开展晶体生长实验第32-44页
    3.1 晶体生长输运过程第32-33页
    3.2 晶体生长的边界层理论第33-35页
        3.2.1 边界层类型第33-35页
        3.2.2 湍流和强迫对流第35页
    3.3 晶体旋转与平动第35-37页
    3.4 晶体生长的实验步骤第37-43页
        3.4.1 籽晶培育第37页
        3.4.2 溶液配制及籽晶固定第37-38页
        3.4.3 籽晶生长过程第38-40页
        3.4.4 晶体生长实验要点第40-41页
        3.4.5 实验结果及讨论第41-43页
    3.5 小结第43-44页
4 光学质量检测第44-52页
    4.1 透过光谱第44-46页
        4.1.1 透过率检测第44页
        4.1.2 检测结果及分析第44-46页
    4.2 锥光干涉图第46-48页
        4.2.1 锥光干涉图第46-47页
        4.2.2 结论与分析第47-48页
    4.3 散射颗粒第48-50页
        4.3.1 检测方式第48-49页
        4.3.2 检测结果第49-50页
    4.4 小结第50-52页
5 位错检测第52-62页
    5.1 位错简介第52-55页
        5.1.1 刃型位错第52-53页
        5.1.2 螺型位错第53-54页
        5.1.3 位错的形成及增殖第54-55页
    5.2 位错腐蚀观察第55-59页
        5.2.1 腐蚀剂选择第55-56页
        5.2.2 样品制备第56页
        5.2.3 样品腐蚀与观察第56页
        5.2.4 位错观察结果第56-59页
    5.3 讨论第59-61页
    5.4 小结第61-62页
6 结论与展望第62-64页
    6.1 主要结论第62-63页
    6.2 课题展望第63-64页
致谢第64-66页
参考文献第66-70页
附录第70页
    A. 作者在攻读学位期间发表的论文目录第70页
    B. 作者在攻读学位期间参加的科研项目第70页
    C. 作者在攻读学位期间发明的专利第70页

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