摘要 | 第3-5页 |
abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-23页 |
1.1 研究背景 | 第10页 |
1.2 氮氧化合物(NO_x)的形成原因及其危害 | 第10-11页 |
1.3 NO_x的消除研究现状 | 第11-15页 |
1.3.1 NO_x污染治理技术 | 第11-12页 |
1.3.2 NO_x的催化分解 | 第12页 |
1.3.3 NO_x选择性非催化还原(SNCR) | 第12-13页 |
1.3.4 NO_x选择性催化还原(SCR) | 第13-15页 |
1.4 贵金属催化剂、分子筛基催化剂和复合氧化物催化剂 | 第15-20页 |
1.4.1 贵金属催化剂 | 第15-17页 |
1.4.2 分子筛基催化剂 | 第17-18页 |
1.4.3 金属氧化物催化剂 | 第18-20页 |
1.5 SnO_2催化剂研究现状 | 第20-21页 |
1.6 本文研究内容及意义 | 第21-23页 |
第2章 实验方法和数据处理 | 第23-29页 |
2.1 原料试剂与仪器设备 | 第23-25页 |
2.1.1 主要化学试剂 | 第23-24页 |
2.1.2 主要仪器 | 第24-25页 |
2.2 催化剂制备 | 第25页 |
2.3 催化剂活性评价 | 第25-26页 |
2.3.1 催化剂评价装置 | 第25页 |
2.3.2 催化剂活性评价准则 | 第25-26页 |
2.4 催化剂物性表征 | 第26-29页 |
2.4.1 N_2吸附-脱附 | 第26页 |
2.4.2 X射线衍射 | 第26页 |
2.4.3 H_2程序升温还原 | 第26页 |
2.4.4 透射电镜 | 第26-27页 |
2.4.5 X射线光电子能谱 | 第27页 |
2.4.6 NH_3程序升温脱附 | 第27页 |
2.4.7 O_2程序升温脱附 | 第27-28页 |
2.4.8 漫反射-紫外吸收光谱 | 第28页 |
2.4.9 元素分析 | 第28页 |
2.4.10 原位红外测试 | 第28-29页 |
第3章 SnO_2基固溶体催化剂用于NO_x的选择性催化还原:不同性质离子改性晶格对催化性能的影响 | 第29-47页 |
3.1 引言 | 第29页 |
3.2 催化剂制备 | 第29-30页 |
3.3 实验结果和讨论 | 第30-46页 |
3.3.1 NO_x的选择性催化性能分析 | 第30页 |
3.3.2 XRD、HRTEM和STEM-mapping结果分析 | 第30-33页 |
3.3.3 Raman结果分析 | 第33-35页 |
3.3.4 UV-Vis结果分析 | 第35-36页 |
3.3.5 N_2吸附-脱附结果分析 | 第36-37页 |
3.3.6 H_2-TPR结果分析 | 第37-38页 |
3.3.7 NH_3-TPD结果分析 | 第38-39页 |
3.3.8 O_2-TPD结果分析 | 第39-40页 |
3.3.9 XPS结果分析 | 第40-42页 |
3.3.10 耐水、硫等结果分析 | 第42-44页 |
3.3.11 In Situ DRIFT | 第44-46页 |
3.4 本章小结 | 第46-47页 |
第4章 SnO_2基固溶体催化剂用于NO_x的选择性催化还原:Cu和W离子共同改性晶格对催化性能的影响 | 第47-65页 |
4.1 引言 | 第47页 |
4.2 催化剂制备 | 第47-50页 |
4.2.1 SnCuW85-X-Y催化剂制备依据 | 第47-49页 |
4.2.2 催化剂制备 | 第49-50页 |
4.3 实验结果与讨论 | 第50-64页 |
4.3.1 催化活性评价 | 第50-51页 |
4.3.2 XRD结果分析 | 第51-53页 |
4.3.3 Raman结果分析 | 第53-54页 |
4.3.4 N_2吸脱附结果分析 | 第54-55页 |
4.3.5 HRTEM和STEM-mapping | 第55-57页 |
4.3.6 NH_3-TPD结果分析 | 第57-59页 |
4.3.7 H_2-TPR结果分析 | 第59-60页 |
4.3.8 XPS结果分析 | 第60-63页 |
4.3.9 耐水、硫等结果分析 | 第63-64页 |
4.4 本章小结 | 第64-65页 |
第5章 结论与展望 | 第65-67页 |
5.1 结论 | 第65-66页 |
5.2 展望 | 第66-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-75页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第75页 |