高反射膜损耗的理论研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-15页 |
| 1.1 课题研究背景与意义 | 第11页 |
| 1.2 高反射膜界面影响机制理论研究的必要性 | 第11-12页 |
| 1.3 高反射膜抗激光损耗性能国内外研究现状 | 第12-13页 |
| 1.4 论文的研究内容与方法 | 第13-15页 |
| 第二章 利用X射线反射获得多层膜体系的结构信息 | 第15-31页 |
| 2.1 研究方法介绍 | 第15-17页 |
| 2.1.1 引言 | 第15-16页 |
| 2.1.2 X射线反射方法理论基础 | 第16-17页 |
| 2.2 典型的简单样品的曲线 | 第17-19页 |
| 2.2.1 基片的反射曲线 | 第17-18页 |
| 2.2.2 单层膜的反射曲线 | 第18-19页 |
| 2.2.3 多层膜的反射曲线 | 第19页 |
| 2.3 实际样品的测试与分析 | 第19-29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-31页 |
| 第三章 薄膜沉积的分子动力学模拟 | 第31-44页 |
| 3.1 分子动力学模拟方法介绍 | 第31-33页 |
| 3.2 不同入射能量的粒子的沉积规律模拟 | 第33-35页 |
| 3.2.1 模型建立 | 第33-35页 |
| 3.2.2 研究结果 | 第35页 |
| 3.3 不同基片温度薄膜对原子层扩散的影响 | 第35-42页 |
| 3.3.1 模型建立 | 第35-37页 |
| 3.3.2 研究结果与讨论 | 第37-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 无定型结构的介电特性的第一原理计算 | 第44-49页 |
| 4.1 理论基础 | 第44-45页 |
| 4.2 计算结果 | 第45-48页 |
| 4.3 本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 惰性气体原子在SiOx和TiOx中的扩散 | 第49-66页 |
| 5.1 理论简介 | 第49-50页 |
| 5.2 模拟模型的建立 | 第50-51页 |
| 5.3 模拟研究结果 | 第51-54页 |
| 5.4 实验结果分析 | 第54-64页 |
| 5.4.1 全谱图结果 | 第56-59页 |
| 5.4.2 针对不同元素的XPS结果 | 第59-61页 |
| 5.4.3 不同入射角度的信息分析结果 | 第61-64页 |
| 5.5 本章小结 | 第64-66页 |
| 第六章 结论和展望 | 第66-69页 |
| 6.1 结论 | 第66页 |
| 6.2 展望 | 第66-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第73-74页 |
