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富硅—氮化硅及非晶硅量子点薄膜材料的制备及性能研究

中文摘要第3-5页
abstract第5-7页
第一章 引言第10-17页
    1.1 太阳能电池的发展现状及意义第10-12页
        1.1.1 太阳能电池的发展现状第10-11页
        1.1.2 太阳能电池发展的意义第11-12页
    1.2 太阳能电池的基本工作原理第12-13页
    1.3 富硅-氮化硅薄膜的性质以及发光研究进展第13-15页
        1.3.1 氮化硅薄膜的性质和应用第13页
        1.3.2 氮化硅薄膜制备方法第13-14页
        1.3.3 富硅-氮化硅薄膜的发光研究第14-15页
    1.4 硅量子点在太阳能电池中的研究进展第15-17页
第二章 富硅-氮化硅薄膜的制备方法及表征手段第17-25页
    2.1 富硅-氮化硅薄膜的制备第17-18页
        2.1.1 实验设备介绍第17页
        2.1.2 实验用衬底样品的清洗第17-18页
    2.2 实验样品的表征分析方法第18-25页
        2.2.1 傅里叶变换红外光谱(FTIR)第18-19页
        2.2.2 X射线衍射谱(XRD)第19-20页
        2.2.3 光致发光谱(PL)第20-21页
        2.2.4 紫外可见光透射以及吸收谱(UV-Vis)第21-24页
        2.2.5 Raman散射谱第24-25页
第三章 氨气流量对富硅SiN_x薄膜的结构及其光学特性影响第25-31页
    3.1 实验目的第25页
    3.2 实验过程第25-26页
    3.3 结果与讨论第26-29页
        3.3.1 傅立叶变换红外光谱分析第26-28页
        3.3.2 紫外可见光谱分析第28-29页
        3.3.3 XRD图谱分析第29页
    3.4 本章小结第29-31页
第四章 射频功率和沉积压力对富硅-氮化硅薄膜的结构和第31-38页
    性质的影响第31页
    4.1 实验目的第31页
    4.2 实验内容第31-32页
    4.3 实验结果与分析第32-37页
        4.3.1 紫外可见光透射谱第32-33页
        4.3.2 傅立叶变换红外光谱第33-36页
        4.3.3 XRD衍射图谱第36-37页
    4.4 本章小结第37-38页
第五章 对含非晶硅量子点的富硅-氮化硅薄膜的结构与发光特性的研究第38-46页
    5.1 实验目的第38页
    5.2 实验过程第38-39页
    5.3 实验结果与分析第39-45页
        5.3.1 傅里叶变换红外光谱第39-40页
        5.3.2 拉曼散射光谱分析第40-42页
        5.3.3 光致发光谱(PL)分析第42-45页
    5.4 本章小结第45-46页
第六章 总结与展望第46-48页
    6.1 主要结论第46-47页
    6.2 后续工作展望第47-48页
参考文献第48-54页
攻读硕士期间发表和完成的论文第54-55页
致谢第55页

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