紫外纳秒激光直写铜膜微结构的研究
| 中文摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 激光直写技术 | 第8-9页 |
| 1.2 激光直写加工金属薄膜研究进展 | 第9-15页 |
| 1.3 课题研究的意义和主要内容 | 第15-17页 |
| 第二章 紫外纳秒脉冲激光加工机理 | 第17-26页 |
| 2.1 激光与材料相互作用机理 | 第17-21页 |
| 2.1.1 金属对激光的反射与吸收 | 第17-19页 |
| 2.1.2 温度模型的建立 | 第19-21页 |
| 2.2 激光脉冲的能量与烧蚀点直径关系 | 第21-23页 |
| 2.3 累积效应对阈值的影响 | 第23-26页 |
| 第三章 实验系统搭建 | 第26-42页 |
| 3.1 紫外纳秒脉冲激光器 | 第26-28页 |
| 3.2 光路系统 | 第28-30页 |
| 3.3 运动控制系统 | 第30-33页 |
| 3.3.1 PMAC的基本特点和功能 | 第31-32页 |
| 3.3.2 以PMAC为核心的运动控制系统设计 | 第32-33页 |
| 3.3.3 PMAC软件工具 | 第33页 |
| 3.4 三维位移台 | 第33-36页 |
| 3.5 上位机软件编写 | 第36-40页 |
| 3.5.1 软件开发环境 | 第36页 |
| 3.5.2 软件模块设置 | 第36-37页 |
| 3.5.3 软件人机交互界面设计 | 第37-40页 |
| 3.6 辅助设备 | 第40-42页 |
| 第四章 紫外纳秒激光加工铜薄膜实验研究 | 第42-58页 |
| 4.1 单脉冲激光烧蚀铜膜 | 第42-50页 |
| 4.1.1 铜膜放置在焦平面时的单脉冲烧蚀实验 | 第42-44页 |
| 4.1.2 铜膜放置在焦平面外的单脉冲烧蚀实验 | 第44-50页 |
| 4.2 直线结构加工 | 第50-56页 |
| 4.2.1 铜膜放置在焦平面时的直线结构加工试验 | 第50-51页 |
| 4.2.2 铜膜放置在焦平面外的直线结构加工试验 | 第51-53页 |
| 4.2.3 系统参数对微结构边缘锯齿大小的影响 | 第53-55页 |
| 4.2.4 薄膜光栅制作 | 第55-56页 |
| 4.3 实验结果总结 | 第56-58页 |
| 第五章 总结与展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
