| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 SiC_p/Al复合材料的概述 | 第10-11页 |
| 1.3 复合材料表面改性 | 第11-15页 |
| 1.3.1 化学镀镍的概述 | 第11-12页 |
| 1.3.2 表面微弧氧化的概述 | 第12-14页 |
| 1.3.3 腐蚀评价方法 | 第14-15页 |
| 1.4 课题的提出 | 第15-16页 |
| 1.4.1 研究的目的及意义 | 第15页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第15-16页 |
| 第2章 实验材料及方法 | 第16-24页 |
| 2.1 实验材料 | 第16-19页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第16页 |
| 2.1.2 化学镀镍中的药品及设备 | 第16-18页 |
| 2.1.3 微弧氧化中的药品及设备 | 第18-19页 |
| 2.2 SiC_p/Al复合材料的制备 | 第19-20页 |
| 2.3 化学镀镍处理工艺 | 第20-21页 |
| 2.3.1 化学镀镍预处理 | 第20-21页 |
| 2.3.2 化学镀镍的配方 | 第21页 |
| 2.3.3 镀层结合力测试 | 第21页 |
| 2.4 微弧氧化处理工艺 | 第21-23页 |
| 2.4.1 电解液的配置 | 第22页 |
| 2.4.2 微弧氧化参数选择 | 第22-23页 |
| 2.5 组织性能分析 | 第23页 |
| 2.6 电化学测试 | 第23-24页 |
| 第3章 SiC_p/Al复合材料表面化学镀镍的研究 | 第24-33页 |
| 3.1 化学镀镍时间对镀镍层组织的影响 | 第24-31页 |
| 3.1.1 镀层表面形貌分析 | 第24-26页 |
| 3.1.2 镀层成分和相结构的分析 | 第26-27页 |
| 3.1.3 镀层厚度的分析 | 第27-29页 |
| 3.1.4 对镀层结合力的影响 | 第29-31页 |
| 3.1.5 对镀层截面形貌的影响 | 第31页 |
| 3.2 热处理温度对镀镍层组织的影响 | 第31-32页 |
| 3.3 本章小结 | 第32-33页 |
| 第4章 SiC_p/Al复合材料表面微弧氧化的研究 | 第33-44页 |
| 4.1 铝酸钠电解液体系下氧化时间对氧化层组织的影响 | 第33-37页 |
| 4.1.1 氧化层表面形貌的分析 | 第33-35页 |
| 4.1.2 氧化层相结构分析 | 第35-36页 |
| 4.1.3 氧化层厚度的分析 | 第36-37页 |
| 4.2 硅酸钠电解液体系下氧化时间对氧化层组织的影响 | 第37-41页 |
| 4.2.1 氧化层表面形貌分析 | 第37-39页 |
| 4.2.2 氧化层成分和相结构分析 | 第39-40页 |
| 4.2.3 氧化层厚度分析 | 第40-41页 |
| 4.3 电解液对氧化层组织的影响 | 第41-43页 |
| 4.3.1 氧化层表面形貌分析 | 第41-42页 |
| 4.3.2 氧化层成分和相结构分析 | 第42-43页 |
| 4.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第5章 SiC_p/Al复合材料表面改性后的耐蚀性研究 | 第44-65页 |
| 5.1 镀镍时间对镀层耐蚀性的影响 | 第44-49页 |
| 5.1.1 镀镍时间对镀层动电位极化曲线的影响 | 第44-46页 |
| 5.1.2 镀镍时间对镀层交流阻抗谱的影响 | 第46-49页 |
| 5.1.3 镀镍60min后镀层腐蚀形貌的分析 | 第49页 |
| 5.2 热处理温度对镀层耐蚀性的影响 | 第49-53页 |
| 5.2.1 热处理温度对镀层动电位极化曲线的影响 | 第50-51页 |
| 5.2.2 热处理温度对镀层交流阻抗谱的影响 | 第51-53页 |
| 5.3 铝酸钠电解液体系下微弧氧化时间对镀层耐蚀性的影响 | 第53-55页 |
| 5.4 硅酸钠电解液体系下微弧氧化时间对镀层耐蚀性的影响 | 第55-58页 |
| 5.4.1 对氧化层动电位极化曲线的影响 | 第55-56页 |
| 5.4.2 对氧化层交流阻抗谱的影响 | 第56-58页 |
| 5.4.3 对复合材料腐蚀失重的影响 | 第58页 |
| 5.5 电解液对氧化层耐蚀性的影响 | 第58-59页 |
| 5.6 不同膜层的耐蚀性探讨 | 第59-61页 |
| 5.7 镀镍对SiC_p/Al复合材料的表面Cl-浓度影响 | 第61-64页 |
| 5.8 本章小节 | 第64-65页 |
| 第6章 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
