摘要 | 第3-5页 |
abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第9-21页 |
1.1 研究背景及意义 | 第9-10页 |
1.2 氮氧化物的去除方法 | 第10-13页 |
1.3 等离子体技术 | 第13-16页 |
1.3.1 等离子体概述 | 第13-15页 |
1.3.2 介质阻挡放电概述 | 第15-16页 |
1.4 介质阻挡放电处理废气的研究现状 | 第16-17页 |
1.5 光催化技术 | 第17-18页 |
1.5.1 TiO_2的光催化原理 | 第17-18页 |
1.5.2 光催化技术的研究现状 | 第18页 |
1.6 本文的主要研究内容 | 第18-21页 |
2 实验设备和实验方法 | 第21-29页 |
2.1 实验装置 | 第21-23页 |
2.2 光催化薄膜的制备 | 第23-25页 |
2.2.1 光催化薄膜制备材料 | 第23-24页 |
2.2.2 TiO_2薄膜制备流程 | 第24-25页 |
2.3 实验流程 | 第25页 |
2.4 电气参数诊断及其分析方法 | 第25-26页 |
2.4.1 放电电压电流波形 | 第25-26页 |
2.4.2 平均放电功率 | 第26页 |
2.5 光学参数测量方法 | 第26-28页 |
2.5.1 发射光谱的基本原理 | 第27页 |
2.5.2 发射光谱强度 | 第27-28页 |
2.6 公式定义 | 第28-29页 |
3 光催化协同液相为水的气液两相介质阻挡放电处理NO_X的实验研究 | 第29-39页 |
3.1 光催化协同气液两相介质阻挡放电去除NOx机理分析 | 第30-31页 |
3.2 光催化协同气液两相DBD的放电特性 | 第31-32页 |
3.2.1 放电形态 | 第31-32页 |
3.2.2 放电功率 | 第32页 |
3.3 光催化协同气液两相DBD的光学特性 | 第32-34页 |
3.3.1 放电发射光谱 | 第32-34页 |
3.4 施加电压对NO_X处理率的影响 | 第34-35页 |
3.5 处理时间对NO_X处理率的影响 | 第35页 |
3.6 催化剂负载层数对NO_X处理率的影响 | 第35-36页 |
3.7 初始浓度对NO_X处理率的影响 | 第36-37页 |
3.8 本章小结 | 第37-39页 |
4 光催化协同液相为NaOH的气液两相介质阻挡放电处理NO_X的实验研究 | 第39-49页 |
4.1 光催化协同液相为NaOH的气液两相DBD的放电特性 | 第40-41页 |
4.1.1 放电形态 | 第40页 |
4.1.2 放电功率 | 第40-41页 |
4.2 光催化协同液相为NaOH的气液两相DBD的光学特性 | 第41-42页 |
4.2.1 放电发射光谱 | 第41-42页 |
4.3 施加电压对NO_X处理率的影响 | 第42-43页 |
4.4 处理时间对NO_X处理率的影响 | 第43-44页 |
4.5 NaOH浓度对NO_X处理率的影响 | 第44-45页 |
4.6 初始浓度对NO_X处理率的影 | 第45-46页 |
4.7 本章小结 | 第46-49页 |
5 结论与展望 | 第49-51页 |
5.1 结论 | 第49-50页 |
5.2 展望 | 第50-51页 |
致谢 | 第51-53页 |
参考文献 | 第53-59页 |
攻读硕士学位期间发表的论文情况 | 第59页 |