摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 引言 | 第9-15页 |
1.1 研究背景 | 第9-10页 |
1.2 研究目的及意义 | 第10-12页 |
1.3 研究现状 | 第12-13页 |
1.3.1 正电子湮没谱学研究现状 | 第12页 |
1.3.2 Fe-9Cr合金微观缺陷研究现状 | 第12-13页 |
1.4 本论文研究内容及创新点 | 第13-15页 |
1.4.1 研究内容 | 第13-14页 |
1.4.2 论文创新点 | 第14-15页 |
2 理论及实验方法 | 第15-31页 |
2.1 正电子湮没谱学原理介绍 | 第15-21页 |
2.1.1 正电子的发现 | 第15-16页 |
2.1.2 正电子热化扩散 | 第16-18页 |
2.1.3 正电子捕获湮没 | 第18-21页 |
2.2 正电子湮没技术 | 第21-25页 |
2.2.1 正电子源 | 第22页 |
2.2.2 正电子湮没寿命谱 | 第22-24页 |
2.2.3 正电子湮没多普勒展宽谱 | 第24-25页 |
2.3 正电子理论计算 | 第25-27页 |
2.4 第一性原理计算 | 第27-31页 |
3 Fe-9Cr合金本征缺陷的电子密度及正电子湮没机理研究 | 第31-41页 |
3.1 计算模型 | 第31页 |
3.2 间隙型缺陷 | 第31-35页 |
3.2.1 电子密度 | 第32-33页 |
3.2.2 正电子湮没寿命 | 第33-35页 |
3.3 空位型缺陷 | 第35-38页 |
3.3.1 电子密度 | 第35-36页 |
3.3.2 正电子湮没寿命 | 第36-38页 |
3.4 位错 | 第38-39页 |
3.4.1 电子密度 | 第38-39页 |
3.4.2 正电子湮没寿命 | 第39页 |
3.5 本章小结 | 第39-41页 |
4 Fe-9Cr合金非本征缺陷的电子密度分布及正电子湮没机理研究 | 第41-51页 |
4.1 He在间隙型缺陷 | 第41-43页 |
4.1.1 差分电荷密度 | 第41-43页 |
4.1.2 正电子湮没寿命 | 第43页 |
4.2 He在空位型缺陷 | 第43-49页 |
4.2.1 差分电荷密度 | 第43-44页 |
4.2.2 正电子湮没寿命 | 第44-47页 |
4.2.3 电子湮没动量分布的S-W参数 | 第47-49页 |
4.3 He在位错 | 第49-50页 |
4.3.1 电子密度 | 第49页 |
4.3.2 正电子湮没寿命 | 第49-50页 |
4.4 本章小结 | 第50-51页 |
5 正电子湮没谱学研究Fe-9Cr合金微观缺陷的演化 | 第51-61页 |
5.1 样品制备与处理 | 第51-53页 |
5.2 样品的测量 | 第53-54页 |
5.3 实验结果 | 第54-57页 |
5.3.1 缺陷浓度的改变 | 第54-55页 |
5.3.2 缺陷类型的改变 | 第55-57页 |
5.3.3 微观形貌 | 第57页 |
5.4 分析及讨论 | 第57-59页 |
5.5 本章小结 | 第59-61页 |
6 结论与展望 | 第61-63页 |
6.1 结论 | 第61-62页 |
6.2 展望 | 第62-63页 |
致谢 | 第63-65页 |
参考文献 | 第65-70页 |