稀土掺杂MoO3纳米材料的光致发光及光催化性能研究
中文摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-27页 |
1.1 研究背景 | 第10页 |
1.2 半导体材料 | 第10-12页 |
1.2.1 半导体材料的定义与分类 | 第10-12页 |
1.2.2 纳米半导体材料 | 第12页 |
1.3 光致发光 | 第12-15页 |
1.3.1 光致发光的简介 | 第12-13页 |
1.3.2 稀土掺杂半导体的光致发光 | 第13-14页 |
1.3.3 稀土掺杂发光的原理 | 第14页 |
1.3.4 稀土掺杂半导体发光的研究现状 | 第14-15页 |
1.4 光催化 | 第15-17页 |
1.4.1 半导体光催化的发展历史 | 第15-16页 |
1.4.2 半导体光催化的原理 | 第16-17页 |
1.4.3 光催化的应用及存在问题 | 第17页 |
1.5 氧化钼半导体材料 | 第17-19页 |
1.5.1 氧化钼的结构与性能 | 第17-18页 |
1.5.2 氧化钼的应用 | 第18-19页 |
1.5.3 氧化钼纳米材料的研究现状 | 第19页 |
1.6 本论文的研究内容 | 第19-20页 |
参考文献 | 第20-27页 |
第二章 样品的制备方法/测试仪器介绍 | 第27-38页 |
2.1 实验方法 | 第27-31页 |
2.1.1 静电纺丝技术 | 第27-29页 |
2.1.2 水热法 | 第29-31页 |
2.1.3 热分解法 | 第31页 |
2.2 表征手段 | 第31-34页 |
2.2.1 形貌、物相及相关表征 | 第31-32页 |
2.2.2 光致发光性能的表征 | 第32-33页 |
2.2.3 光催化降解有机染料测试 | 第33-34页 |
参考文献 | 第34-38页 |
第三章 稀土掺杂MoO_3纳米材料发光性能 | 第38-51页 |
3.1 引言 | 第38页 |
3.2 稀土Er、Tb掺杂MoO_3纳米线的制备 | 第38-44页 |
3.2.1 实验仪器及实验试剂 | 第38页 |
3.2.2 稀土掺杂MoO_3纳米材料的制备 | 第38-39页 |
3.2.3 掺Er纳米MoO_3的表征及性能分析 | 第39-42页 |
3.2.4 Tb掺杂MoO_3纳米材料的发光特性 | 第42-44页 |
3.3 Eu掺杂MoO_3纳米颗粒的发光特性 | 第44-47页 |
3.3.1 MoO_3:Eu纳米颗粒的制备 | 第45页 |
3.3.2 掺Eu纳米MoO_3的表征及分析 | 第45-47页 |
3.4 不同掺杂元素的差别分析 | 第47-48页 |
3.5 本章小结 | 第48页 |
参考文献 | 第48-51页 |
第四章 掺杂纳米MoO_3的制备及其光催化性能 | 第51-63页 |
4.1 引言 | 第51页 |
4.2 热分解法制备纳米MoO_3颗粒 | 第51-52页 |
4.3 退火处理对其结构及光催化性能的影响 | 第52-56页 |
4.4 掺杂对纳米MoO_3粉末光催化性能的影响 | 第56-61页 |
4.5 本章小结 | 第61页 |
参考文献 | 第61-63页 |
第五章 总结与展望 | 第63-65页 |
5.1 结论 | 第63-64页 |
5.2 展望 | 第64-65页 |
在学期间的研究成果 | 第65-66页 |
致谢 | 第66页 |