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图形衬底Si基GaAs材料热应力分布

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第一章 绪论第11-19页
    1.1 GaAs/Si的研究背景第11-12页
    1.2 研究内容及意义第12-15页
    1.3 论文结构安排第15-16页
    1.4 论文创新点第16页
    参考文献第16-19页
第二章 图形衬底GaAs/Si材料概述第19-26页
    2.1 高宽比捕获第20-21页
        2.1.1 高宽比捕获的原理及机制第20页
        2.1.2 高宽比捕获的研究现状第20-21页
        2.1.3 高宽比捕获的发展趋势第21页
    2.2 侧向外延第21-23页
        2.2.1 侧向外延的原理及机制第21-22页
        2.2.2 侧向外延的研究现状第22页
        2.2.3 侧向外延的发展趋势第22-23页
    2.3 本章小结第23页
    参考文献第23-26页
第三章 热应力理论基础及研究方法第26-36页
    3.1 热应力理论基础第26-28页
        3.1.1 弹性理论基础第26-27页
        3.1.2 热失配应变及应力分析第27-28页
    3.2 热应力表征方法第28-31页
        3.2.1 光致发光谱(PL)第28-29页
        3.2.2 拉曼光谱第29-30页
        3.2.3 X射线衍射技术(XRD)第30-31页
    3.3 热应力计算方法第31-34页
        3.3.1 解析计算方法第32-34页
        3.3.2 有限元法数值计算第34页
    3.4 本章小结第34页
    参考文献第34-36页
第四章 有限元法数值计算第36-43页
    4.1 有限元法基础第36页
    4.2 热应力问题的有限元解法第36-38页
    4.3 有限元法数值计算软件第38-39页
    4.4 有限元法数值计算的准确性验证第39-41页
    4.5 本章小结第41页
    参考文献第41-43页
第五章 GaAs/Si材料的热应力分布及优化第43-54页
    5.1 平面衬底GaAs/Si材料的热应力分布第43-44页
    5.2 图形衬底GaAs/Si材料的热应力分布第44-48页
    5.3 图形衬底GaAs/Si材料的结构参数的优化第48-52页
        5.3.1 掩膜厚度对图形衬底GaAs/Si材料热应力分布的影响第48-49页
        5.3.2 窗口宽度对图形衬底GaAs/Si材料热应力分布的影响第49-50页
        5.3.3 掩膜宽度对图形衬底GaAs/Si材料热应力分布的影响第50-52页
    5.4 本章小结第52页
    参考文献第52-54页
第六章 总结与展望第54-56页
    6.1 总结第54-55页
    6.2 展望第55-56页
致谢第56-58页
攻读学位期间发表的学术论文目录第58页

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