摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第10-20页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 电弧离子镀的基本原理及特点 | 第10-12页 |
1.3 液滴 | 第12-18页 |
1.3.1 液滴产生的原因及特点 | 第12-15页 |
1.3.2 液滴对薄膜性能的影响 | 第15-16页 |
1.3.3 影响液滴数量和尺寸的因素的研究现状 | 第16-18页 |
1.4 TIN薄膜的研究现状 | 第18-19页 |
1.5 本课题的研究意义与内容 | 第19-20页 |
2 实验设备及薄膜的表征方法 | 第20-26页 |
2.1 实验设备 | 第20-21页 |
2.1.1 电弧离子镀设备 | 第20页 |
2.1.2 等离子体渗氮设备 | 第20-21页 |
2.2 薄膜表征方法 | 第21-26页 |
2.2.1 薄膜表面与截面形貌分析 | 第21页 |
2.2.2 薄膜表面液滴的表征方法 | 第21-22页 |
2.2.3 薄膜厚度测试 | 第22页 |
2.2.4 表面粗糙度测试 | 第22-23页 |
2.2.5 薄膜显微硬度测试 | 第23页 |
2.2.6 薄膜附着性能测试 | 第23-24页 |
2.2.7 薄膜摩擦学性能测试 | 第24-25页 |
2.2.8 薄膜耐腐蚀性能分析 | 第25-26页 |
3 工艺参数对薄膜表面液滴的影响 | 第26-42页 |
3.1 氮气压强对薄膜表面液滴的影响 | 第26-31页 |
3.1.1 实验方法 | 第26-27页 |
3.1.2 氮气压强对薄膜表面形貌的影响 | 第27-28页 |
3.1.3 氮气压强对薄膜表面液滴数量和尺寸的影响 | 第28-31页 |
3.2 脉冲偏压对薄膜表面液滴的影响 | 第31-37页 |
3.2.1 实验方法 | 第31页 |
3.2.2 脉冲偏压对薄膜表面形貌的影响 | 第31-32页 |
3.2.3 脉冲偏压对薄膜表面液滴数量和尺寸的影响 | 第32-37页 |
3.3 弧电流对薄膜表面液滴的影响 | 第37-41页 |
3.3.1 实验方法 | 第37页 |
3.3.2 实验方法弧电流对薄膜表面形貌的影响 | 第37-38页 |
3.3.3 弧电流对薄膜表面液滴数量和尺寸的影响 | 第38-41页 |
3.4 本章小结 | 第41-42页 |
4 基体表面状态对薄膜表面液滴及薄膜性能的影响 | 第42-63页 |
4.1 基体表面粗糙度对薄膜表面液滴及薄膜性能的影响 | 第42-51页 |
4.1.1 实验方法 | 第42-43页 |
4.1.2 基体表面粗糙度对薄膜表面形貌的影响 | 第43-44页 |
4.1.3 基体表面粗糙度对薄膜表面液滴数量和尺寸的影响 | 第44-47页 |
4.1.4 基体表面粗糙度对薄膜结合力的影响 | 第47-49页 |
4.1.5 基体表面粗糙度对薄膜摩擦系数的影响 | 第49-51页 |
4.2 基体硬度对薄膜表面液滴及薄膜性能的影响 | 第51-56页 |
4.2.1 实验方法 | 第51-52页 |
4.2.2 基体硬度对薄膜表面形貌的影响 | 第52-53页 |
4.2.3 基体硬度对薄膜表面液滴数量和尺寸的影响 | 第53页 |
4.2.4 基体硬度对薄膜结合力的影响 | 第53-54页 |
4.2.5 基体硬度对薄膜摩擦系数的影响 | 第54-56页 |
4.3 基体预渗氮对薄膜表面液滴及薄膜性能的影响 | 第56-61页 |
4.3.1 实验方法 | 第56页 |
4.3.2 基体预渗氮对薄膜表面形貌的影响 | 第56-57页 |
4.3.3 基体预渗氮对薄膜表面液滴数量和尺寸的影响 | 第57-58页 |
4.3.4 基体预渗氮对薄膜硬度的影响 | 第58-59页 |
4.3.5 基体预渗氮对薄膜结合力的影响 | 第59-60页 |
4.3.6 基体预渗氮对薄膜摩擦系数的影响 | 第60-61页 |
4.4 本章小结 | 第61-63页 |
5 液滴对薄膜耐腐蚀性能的影响 | 第63-76页 |
5.1 实验方法 | 第63页 |
5.2 TIN膜层中液滴及与液滴相关的缺陷 | 第63-68页 |
5.2.1 TiN膜层中的液滴缺陷 | 第63-65页 |
5.2.2 TiN膜层中与液滴相关的缺陷 | 第65-68页 |
5.3 液滴及相关缺陷对薄膜耐腐蚀性能的影响 | 第68-71页 |
5.4 腐蚀机理讨论 | 第71-73页 |
5.5 基体表面粗糙度对薄膜耐腐蚀性能的影响 | 第73-75页 |
5.6 本章小结 | 第75-76页 |
6 结论 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-82页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第82-83页 |
致谢 | 第83页 |