| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 硬质涂层沉积技术简介 | 第10-17页 |
| 1.2.1 蒸发镀 | 第11页 |
| 1.2.2 溅射镀 | 第11-16页 |
| 1.2.2.1 平衡磁控溅射 | 第12-13页 |
| 1.2.2.2 非平衡磁控溅射 | 第13-14页 |
| 1.2.2.3 脉冲磁控溅射 | 第14-16页 |
| 1.2.3 离子镀 | 第16-17页 |
| 1.3 硬质涂层的研究现状及发展趋势 | 第17-20页 |
| 1.3.1 组成多元化 | 第17-18页 |
| 1.3.2 结构多层化 | 第18-19页 |
| 1.3.3 功能梯度化 | 第19-20页 |
| 1.4 本论文的选题意义及研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验设备及研究方法 | 第22-32页 |
| 2.1 实验设备 | 第22-23页 |
| 2.2 实验方法 | 第23-32页 |
| 2.2.1 基体及其预处理 | 第23页 |
| 2.2.2 涂层的制备 | 第23-24页 |
| 2.2.3 涂层显微结构表征 | 第24-26页 |
| 2.2.3.1 形貌观察 | 第24-25页 |
| 2.2.3.2 成分分析 | 第25页 |
| 2.2.3.3 物相组成 | 第25-26页 |
| 2.2.4 涂层性能分析与表征 | 第26-32页 |
| 2.2.4.1 结合力 | 第26-28页 |
| 2.2.4.2 硬度 | 第28-30页 |
| 2.2.4.3 抗高温氧化性能 | 第30-32页 |
| 第3章 磁控溅射CrN涂层的研究 | 第32-45页 |
| 3.1 闭合场非平衡直流磁控溅射CrN涂层的研究 | 第32-38页 |
| 3.1.1 实验方法 | 第32-33页 |
| 3.1.2 实验结果与讨论 | 第33-38页 |
| 3.1.2.1 氮气氩气含量对涂层的影响 | 第33-35页 |
| 3.1.2.2 基体偏压对涂层的影响 | 第35-38页 |
| 3.1.3 小结 | 第38页 |
| 3.2 高功率脉冲磁控溅射CrN涂层的研究 | 第38-44页 |
| 3.2.1 实验方法 | 第39-40页 |
| 3.2.2 结果与讨论 | 第40-43页 |
| 3.2.2.1 CrN涂层的表面形貌 | 第40-41页 |
| 3.2.2.2 CrN涂层的相组成 | 第41-42页 |
| 3.2.2.3 CrN涂层的结合力和硬度 | 第42-43页 |
| 3.2.3 结论 | 第43-44页 |
| 3.3 本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 磁控溅射CrSiN涂层的研究 | 第45-56页 |
| 4.1 Si含量对CrSiN涂层性能研究 | 第45-50页 |
| 4.1.1 实验方法 | 第45-46页 |
| 4.1.2 结果与讨论 | 第46-49页 |
| 4.1.2.1 CrSiN涂层的表面形貌 | 第46页 |
| 4.1.2.2 CrSiN涂层的沉积速率 | 第46-47页 |
| 4.1.2.3 CrSiN涂层的相组成 | 第47-48页 |
| 4.1.2.4 CrSiN涂层的硬度 | 第48-49页 |
| 4.1.3 小结 | 第49-50页 |
| 4.2 CrSiN涂层的氧化性能 | 第50-55页 |
| 4.2.1 实验方法 | 第50-51页 |
| 4.2.2 结果与讨论 | 第51-54页 |
| 4.2.2.1 CrSiN涂层形貌、力学性能及物相组成 | 第51-52页 |
| 4.2.2.2 氧化后涂层表面形貌及物相组成 | 第52-53页 |
| 4.2.2.3 氧化后涂层截面形貌 | 第53-54页 |
| 4.2.3 小结 | 第54-55页 |
| 4.3 本章小结 | 第55-56页 |
| 第5章 磁控溅射CrHfSiN涂层的研究 | 第56-62页 |
| 5.1 实验方法 | 第56页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第56-61页 |
| 5.2.1 氧化前涂层形貌及物相组成 | 第57-58页 |
| 5.2.2 氧化后涂层的形貌及物相组成 | 第58-60页 |
| 5.2.3 涂层氧化动力学曲线 | 第60-61页 |
| 5.3 本章小结 | 第61-62页 |
| 第6章 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-71页 |
| 攻读硕士学位期间主要研究成果 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |