| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 主要符号及单位表 | 第16-18页 |
| 1 绪论 | 第18-35页 |
| 1.1 研究背景和意义 | 第18-20页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第20-32页 |
| 1.2.1 光电器件微/纳尺度热辐射特性调控机理研究现状 | 第21-28页 |
| 1.2.2 光电器件微/纳尺度热辐射特性应用研究现状 | 第28-32页 |
| 1.3 本文工作的主要内容 | 第32-35页 |
| 2 光电器件微/纳尺度热辐射特性研究方法 | 第35-51页 |
| 2.1 麦克斯韦方程 | 第35-37页 |
| 2.2 材料光学特性 | 第37-38页 |
| 2.3 光电器件热辐射电磁传播特性 | 第38-39页 |
| 2.4 微/纳尺度光电器件热辐射特性数值计算方法 | 第39-50页 |
| 2.4.1 严格耦合波分析方法 | 第40-45页 |
| 2.4.2 时域有限差分方法 | 第45-50页 |
| 2.5 本章小结 | 第50-51页 |
| 3 磁极化效应物理机理研究 | 第51-65页 |
| 3.1 引言 | 第51-52页 |
| 3.2 计算模型 | 第52页 |
| 3.3 MIM结构色散关系及MIM光栅结构等效LC回路模型 | 第52-57页 |
| 3.3.1 MIM结构色散关系 | 第52-56页 |
| 3.3.2 MIM光栅结构等效LC回路模型 | 第56-57页 |
| 3.4 计算结果与分析 | 第57-64页 |
| 3.4.1 Ag/SiO_2/Ag对称光栅结构的共振特性 | 第57-58页 |
| 3.4.2 SiO_2层厚度对Ag/SiO_2/Ag光栅结构共振特性的影响 | 第58-60页 |
| 3.4.3 金属带宽度对Ag/SiO_2/Ag光栅结构共振特性的影响 | 第60-61页 |
| 3.4.4 Ag/SiO_2/Ag非对称光栅结构的共振特性 | 第61-64页 |
| 3.5 本章小结 | 第64-65页 |
| 4 等方性窄带辐射器热辐射特性研究 | 第65-75页 |
| 4.1 引言 | 第65页 |
| 4.2 窄带辐射器的理论模型 | 第65-67页 |
| 4.3 窄带辐射器辐光谱特性分析 | 第67-74页 |
| 4.3.1 计算方法验证 | 第67-68页 |
| 4.3.2 上部银光栅对窄带光谱特性的影响 | 第68-70页 |
| 4.3.3 掺杂硅光栅填充因子的影响 | 第70-71页 |
| 4.3.4 入射角的影响 | 第71-73页 |
| 4.3.5 光栅周期的影响 | 第73页 |
| 4.3.6 掺杂硅光栅深度的影响 | 第73-74页 |
| 4.4 本章小结 | 第74-75页 |
| 5 等方性钙钛矿电池的设计方法研究 | 第75-90页 |
| 5.1 引言 | 第75页 |
| 5.2 钙钛矿电池工作原理 | 第75-76页 |
| 5.3 计算方法 | 第76-78页 |
| 5.4 计算模型及光电参数验证 | 第78-79页 |
| 5.5 计算结果与分析 | 第79-88页 |
| 5.5.1 钙钛矿电池结构表面的选择 | 第79-81页 |
| 5.5.2 钙钛矿电池结构周期的影响 | 第81-83页 |
| 5.5.3 SiO_2光栅厚度的影响 | 第83-85页 |
| 5.5.4 TiO_2光栅厚度的影响 | 第85-86页 |
| 5.5.5 钙钛矿电池结构表面的等方性吸收特征 | 第86-88页 |
| 5.6 本章小结 | 第88-90页 |
| 6 光伏-热电系统的宽光谱等方性热辐射特性调控方法研究 | 第90-104页 |
| 6.1 引言 | 第90-91页 |
| 6.2 计算模型 | 第91-94页 |
| 6.3 计算结果与分析 | 第94-102页 |
| 6.3.1 理论模型验证 | 第94-95页 |
| 6.3.2 蛾眼结构与SiO_2 BARC的影响 | 第95-98页 |
| 6.3.3 蛾眼结构高度的影响 | 第98页 |
| 6.3.4 蛾眼结构周期的影响 | 第98-100页 |
| 6.3.5 入射角的影响 | 第100-102页 |
| 6.4 本章小结 | 第102-104页 |
| 7 光伏-热电系统的宽光谱等方性热辐射特性控制实验研究 | 第104-125页 |
| 7.1 引言 | 第104页 |
| 7.2 单晶硅表面结构制备方法 | 第104-108页 |
| 7.2.1 PS球自组装模板 | 第104-106页 |
| 7.2.2 电感耦合等离子刻蚀 | 第106-107页 |
| 7.2.3 PS球掩模版的去除 | 第107页 |
| 7.2.4 碱液刻蚀 | 第107页 |
| 7.2.5 磁控溅射镀膜 | 第107-108页 |
| 7.3 刻蚀结果分析 | 第108-116页 |
| 7.3.1 PS球模板形貌分析 | 第108页 |
| 7.3.2 ICP刻蚀形貌分析 | 第108-111页 |
| 7.3.3 KOH溶液刻蚀形貌分析 | 第111-115页 |
| 7.3.4 磁控溅射镀膜 | 第115-116页 |
| 7.4 微结构表面光谱测试分析 | 第116-123页 |
| 7.4.1 测试方法 | 第116-119页 |
| 7.4.2 测试结果分析 | 第119-123页 |
| 7.5 本章小结 | 第123-125页 |
| 8 结束语 | 第125-129页 |
| 8.1 主要研究结论 | 第125-127页 |
| 8.2 主要创新点 | 第127页 |
| 8.3 下一步研究设想 | 第127-129页 |
| 致谢 | 第129-130页 |
| 参考文献 | 第130-148页 |
| 攻读博士学位期间已发表的相关论文 | 第148-149页 |
