摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第12-44页 |
第一节 贵金属纳微材料 | 第13-25页 |
1.1.1 表面等离子体共振性质 | 第13-17页 |
1.1.2 常见表面等离子体共振性质简介 | 第17-22页 |
1.1.2.1 球形纳米粒子 | 第17页 |
1.1.2.2 棒状纳米粒子 | 第17-18页 |
1.1.2.3 圆盘形和三角板形纳米粒子 | 第18-20页 |
1.1.2.4 纳米孔阵列及其光学异透现象 | 第20-22页 |
1.1.3 等离子体杂化体系 | 第22-25页 |
1.1.3.1 纳米球壳的等离子体杂化体系 | 第23-24页 |
1.1.3.2 对称性破坏诱导等离子体杂化 | 第24-25页 |
第二节 贵金属纳微材料的制备 | 第25-38页 |
1.2.1 溶液相合成 | 第26-28页 |
1.2.2 自上而下刻蚀 | 第28-29页 |
1.2.3 胶体刻蚀 | 第29-36页 |
1.2.3.1 胶体晶体模板 | 第32页 |
1.2.3.2 入射角可控的胶体刻蚀技术 | 第32-33页 |
1.2.3.3 方位角可控的胶体刻蚀技术 | 第33-34页 |
1.2.3.4 微球表面构造图案 | 第34-35页 |
1.2.3.5 胶体刻蚀技术的扩展 | 第35-36页 |
1.2.4 其他非传统刻蚀方法 | 第36-38页 |
第三节 等离子体纳米材料的应用 | 第38-42页 |
1.3.1 基于球-球耦合的比色传感器 | 第38-39页 |
1.3.2 基于折射率变化的无标记光学检测 | 第39-41页 |
1.3.3 表面增强光谱 | 第41-42页 |
第四节 论文选题及设计思路 | 第42-44页 |
第二章 基于胶体刻蚀的中空纳米锥台阵列及其光学性质研究 | 第44-57页 |
第一节 引言 | 第44-45页 |
第二节 实验部分 | 第45-47页 |
2.2.1 实验材料 | 第45页 |
2.2.2 中空纳米锥台阵列的制备 | 第45-46页 |
2.2.3 FDTD模拟 | 第46页 |
2.2.4 仪器设备 | 第46-47页 |
第三节 结果与讨论 | 第47-55页 |
2.3.1 中空纳米锥台阵列制备过程的调控 | 第47-48页 |
2.3.2 形貌表征 | 第48-49页 |
2.3.3 光学性质的研究 | 第49-53页 |
2.3.4 等离子传感器和表面增强拉曼散射的应用 | 第53-55页 |
第四节 本章小结 | 第55-57页 |
第三章 纳米杯阵列的制备及其光学性质研究 | 第57-67页 |
第一节 引言 | 第57-58页 |
第二节 实验部分 | 第58-60页 |
3.2.1 实验材料 | 第58页 |
3.2.2 纳米杯阵列膜的制备 | 第58-59页 |
3.2.3 FDTD模拟 | 第59页 |
3.2.4 仪器设备 | 第59-60页 |
第三节 结果与讨论 | 第60-66页 |
3.3.1 纳米杯阵列的制备与形貌表征 | 第60-61页 |
3.3.2 纳米杯阵列的光学性质研究 | 第61-62页 |
3.3.3 纳米杯阵列膜的光学性质 | 第62-64页 |
3.3.4 空间选择传感器(Spatial Selective Sensor)的应用 | 第64-66页 |
第四节 本章小结 | 第66-67页 |
结论 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-78页 |
作者简历 | 第78页 |
攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第78-80页 |
致谢 | 第80-81页 |