| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-35页 |
| 1.1 纳米材料和纳米技术 | 第11页 |
| 1.2 人工合成纳米孔的分类和制备技术简介 | 第11-17页 |
| 1.3 离子潜径迹及高分子纳米孔径迹刻蚀相关知识 | 第17-22页 |
| 1.3.1 离子潜径迹的形成 | 第17-19页 |
| 1.3.2 离子潜径迹的刻蚀原理 | 第19-20页 |
| 1.3.3 常用径迹刻蚀高分子材料及特点 | 第20-21页 |
| 1.3.4 影响高分子纳米孔刻蚀速率的各种参量 | 第21-22页 |
| 1.4 纳米孔中的整流现象及其解释 | 第22-27页 |
| 1.4.1 固液界面扩散双电层模型 | 第22-24页 |
| 1.4.2 非对称纳米孔中的整流效应 | 第24-27页 |
| 1.5 径迹刻蚀高分子纳米孔的应用 | 第27-33页 |
| 1.5.1 高性能的纳米流体器件 | 第27-29页 |
| 1.5.2 智能仿生开关通道 | 第29-30页 |
| 1.5.3 单分子检测 | 第30-31页 |
| 1.5.4 能量的转换和收集 | 第31-32页 |
| 1.5.5 模板法制备纳米线/管/球 | 第32-33页 |
| 1.6 本论文的选题依据和意义 | 第33-35页 |
| 第二章 高分子纳米孔的制备 | 第35-40页 |
| 2.1 高分子纳米孔的制备 | 第35-39页 |
| 2.1.1 圆锥形纳米孔的制备 | 第35-39页 |
| 2.1.2 双锥形纳米孔的制备 | 第39页 |
| 小结 | 第39-40页 |
| 第三章 锥形单纳米孔的一般电学特性研究 | 第40-52页 |
| 3.1 浓度、电压以及尖端孔径对锥形纳米孔整流效应的影响 | 第40-42页 |
| 3.1.1 背景介绍 | 第40页 |
| 3.1.2 实验方案 | 第40-41页 |
| 3.1.3 实验结果与讨论 | 第41-42页 |
| 3.2 压力驱动下纳米孔中离子传导机制研究 | 第42-50页 |
| 3.2.1 背景介绍 | 第42-43页 |
| 3.2.2 单锥形高分子纳米核孔的制备 | 第43页 |
| 3.2.3 离子电流的测量 | 第43-44页 |
| 3.2.4 实验结果及讨论 | 第44-50页 |
| 3.3 小结 | 第50-52页 |
| 第四章 锥形单纳米核孔的修饰 | 第52-67页 |
| 4.1 原子层沉积法修饰径迹刻蚀纳米孔及电学特性测量 | 第53-61页 |
| 4.1.1 背景介绍 | 第53-55页 |
| 4.1.2 实验方案 | 第55-61页 |
| 4.1.4 小结 | 第61页 |
| 4.2 表面活性剂修饰控制纳米孔的整流特性研究 | 第61-65页 |
| 4.2.1 背景介绍 | 第61-62页 |
| 4.2.2 实验方案 | 第62-64页 |
| 4.2.3 实验结果及讨论 | 第64-65页 |
| 4.3 小结 | 第65-67页 |
| 第五章 双极纳米线的制备 | 第67-75页 |
| 5.1 背景介绍 | 第68页 |
| 5.2 实验方案 | 第68-73页 |
| 5.2.1 化学试剂及溶液配制 | 第68-69页 |
| 5.2.2 纳米线的制备 | 第69-71页 |
| 5.2.3 高分子多聚物模板的溶解 | 第71页 |
| 5.2.4 Ag/Cu双极金属纳米线的表征 | 第71-73页 |
| 5.3 电化学沉积机理 | 第73-74页 |
| 5.4 小结 | 第74-75页 |
| 第六章 电渗流驱动下聚苯乙烯小球穿孔研究 | 第75-84页 |
| 6.1 研究背景 | 第76-77页 |
| 6.2 PS小球穿越Kapton单纳米孔实验研究 | 第77-83页 |
| 6.2.1 化学试剂及溶液配制 | 第77-78页 |
| 6.2.2 锥形高分子纳米核孔的制备 | 第78页 |
| 6.2.3 离子电流的测量 | 第78-79页 |
| 6.2.4 实验结果及讨论 | 第79-83页 |
| 6.3 小结 | 第83-84页 |
| 第七章 结论与创新点 | 第84-85页 |
| 本论文创新点 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-95页 |
| 博士期间发表论文 | 第95-96页 |
| 致谢 | 第96页 |