摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第13-20页 |
1.1 光催化概述 | 第13-14页 |
1.2 光催化原理 | 第14页 |
1.3 半导体光催化活性的影响因素 | 第14-16页 |
1.3.1 光源和光强的影响 | 第14-15页 |
1.3.2 催化剂投加量的影响 | 第15页 |
1.3.3 催化剂晶型和结构的影响 | 第15页 |
1.3.4 半导体材料粒子的粒径的大小 | 第15页 |
1.3.5 污染物浓度的影响 | 第15-16页 |
1.4 光催化技术的发展和应用 | 第16页 |
1.4.1 光催化技术在环境净化和能源开发方面的应用 | 第16页 |
1.4.2 光催化技术在分解水制氢方面的应用 | 第16页 |
1.4.3 光催化技术在CO2还原方面的应用 | 第16页 |
1.5 光催化剂的修饰和改性 | 第16-18页 |
1.5.1 贵金属负载 | 第17页 |
1.5.2 离子掺杂 | 第17页 |
1.5.3 复合半导体 | 第17页 |
1.5.4 光敏化 | 第17-18页 |
1.6 染料废水处理研究现状 | 第18页 |
1.7 选题意义与研究内容 | 第18-20页 |
第二章 实验试剂、仪器与测试表征方法 | 第20-25页 |
2.1 实验试剂 | 第20页 |
2.2 实验仪器 | 第20-21页 |
2.3 催化活性的评价 | 第21-22页 |
2.3.1 模拟污染物活性艳蓝的分子结构 | 第21-22页 |
2.3.2 活性艳蓝最大吸收波长的测定 | 第22页 |
2.3.3 去除率的计算 | 第22页 |
2.3.4 光催化剂光催化活性测试 | 第22页 |
2.4 表征方法 | 第22-25页 |
2.4.1 X射线衍射(XRD) | 第22-23页 |
2.4.2 紫外-可见漫反射(UV-Vis) | 第23页 |
2.4.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第23页 |
2.4.4 荧光光谱(PL) | 第23-24页 |
2.4.5 光电化学性能分析(Photocurrent) | 第24页 |
2.4.6 X射线电子能谱(XPS) | 第24页 |
2.4.7 比表面积(BET) | 第24-25页 |
第三章 ZnO光催化剂的制备及其光催化性能 | 第25-41页 |
3.1 前言 | 第25页 |
3.2 ZnO光催化剂的制备 | 第25-39页 |
3.2.1 以Zn(NO_3)_2·6H_2O和六次甲基四胺为原料制备ZnO光催化剂 | 第25-29页 |
3.2.1.1 X射线衍射分析(XRD) | 第25-26页 |
3.2.1.2 扫描电子显微镜分析(SEM) | 第26-27页 |
3.2.1.3 紫外可见吸收光谱分析(UV-Vis) | 第27-28页 |
3.2.1.4 光致发射光谱分析(PL) | 第28页 |
3.2.1.5 催化剂对活性艳蓝的光催化氧化 | 第28-29页 |
3.2.2 以Zn(NO_3)_2·6H_2O和NaOH为原料制备ZnO光催化剂 | 第29-33页 |
3.2.2.1 X射线衍射分析(XRD) | 第29-30页 |
3.2.2.2 扫描电子显微镜分析(SEM) | 第30-31页 |
3.2.2.3 紫外-可见吸收光谱分析(UV-Vis) | 第31-32页 |
3.2.2.4 光致发光光谱分析(PL) | 第32-33页 |
3.2.2.5 催化剂对活性艳蓝的光催化氧化 | 第33页 |
3.2.3 以Zn(NO_3)_2·6H_2O和六次甲基四胺为原料,以柠檬酸或EDTA为添加剂制备ZnO光催化剂 | 第33-39页 |
3.2.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第33-34页 |
3.2.3.2 扫描电子显微镜分析(SEM) | 第34-35页 |
3.2.3.3 紫外-可见吸收光谱分析(UV-Vis) | 第35-36页 |
3.2.3.4 光致发光光谱分析(PL) | 第36-37页 |
3.2.3.5 催化剂对活性艳蓝的光催化氧化 | 第37-39页 |
3.3 本章小结 | 第39-41页 |
第四章 CdS修饰的ZnO和ZnCO_3光催化剂的制备及其光催化性能 | 第41-49页 |
4.1 前言 | 第41页 |
4.2 光催化剂的制备 | 第41页 |
4.3 样品表征 | 第41-47页 |
4.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第41-42页 |
4.3.2 扫描电子显微镜分析(SEM) | 第42-43页 |
4.3.3 紫外可见吸收光谱分析(UV-Vis) | 第43-44页 |
4.3.4 比表面积分析(BET) | 第44-45页 |
4.3.5 光电化学性能分析(Photocurrent) | 第45页 |
4.3.6 X射线电子能谱(XPS) | 第45-47页 |
4.4 催化剂对活性艳蓝的光催化氧化 | 第47页 |
4.5 本章小结 | 第47-49页 |
第五章 ZnS基光催化剂的制备及其光催化性能 | 第49-63页 |
5.1 前言 | 第49页 |
5.2 ZnS光催化剂的制备 | 第49-54页 |
5.2.1 样品表征 | 第49-53页 |
5.2.1.1 X射线衍射分析(XRD) | 第49-50页 |
5.2.1.2 扫描电子显微镜分析(SEM) | 第50-51页 |
5.2.1.3 紫外可见吸收光谱分析(UV-Vis) | 第51-52页 |
5.2.1.4 比表面积分析(BET) | 第52-53页 |
5.2.1.5 光电化学性能分析(Photocurrent) | 第53页 |
5.2.2 催化剂对活性艳蓝的光催化氧化 | 第53-54页 |
5.3 Bi_2S_3/ZnS和CdS/ZnS光催化剂的制备 | 第54-62页 |
5.3.1 样品表征 | 第54-60页 |
5.3.1.1 X射线衍射分析(XRD) | 第54-56页 |
5.3.1.2 扫描电子显微镜分析(SEM) | 第56-57页 |
5.3.1.3 紫外可见吸收光谱分析(UV-Vis) | 第57-59页 |
5.3.1.4 X射线电子能谱(XPS) | 第59-60页 |
5.3.2 催化剂对活性艳蓝的光催化氧化 | 第60-62页 |
5.4 本章小结 | 第62-63页 |
第六章 结论 | 第63-65页 |
参考文献 | 第65-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
附录 | 第70页 |