离轴三反光学自由曲面抛光工艺研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 课题来源 | 第10页 |
| 1.2 课题的研究背景及意义 | 第10-13页 |
| 1.3 国内外研究现状 | 第13-19页 |
| 1.3.1 光学自由曲面加工的研究现状 | 第13-16页 |
| 1.3.2 超精密抛光加工的国内外研究现状 | 第16-19页 |
| 1.4 主要研究内容 | 第19-22页 |
| 1.4.1 光学自由曲面抛光轨迹规划 | 第19-20页 |
| 1.4.2 光学自由曲面抛光材料去除控制 | 第20页 |
| 1.4.3 离轴三反光学自由曲面抛光实验研究 | 第20-22页 |
| 第2章 离轴三反自由曲面抛光轨迹规划 | 第22-40页 |
| 2.1 集成抛光工艺体系 | 第23-24页 |
| 2.2 自由曲面的参数域离散 | 第24-26页 |
| 2.3 抛光轨迹规划 | 第26-34页 |
| 2.3.1 同心圆轨迹和螺旋线轨迹 | 第27-29页 |
| 2.3.2 近似同心圆轨迹 | 第29-31页 |
| 2.3.3 交错轨迹 | 第31页 |
| 2.3.4 抛光姿态角的求解 | 第31-34页 |
| 2.3.5 抛光轨迹运动学逆解 | 第34页 |
| 2.4 离轴三反自由曲面轨迹规划结果 | 第34-37页 |
| 2.5 本章小结 | 第37-40页 |
| 第3章 离轴三反自由曲面抛光材料去除控制 | 第40-54页 |
| 3.1 离轴三反自由曲面抛光策略 | 第41-43页 |
| 3.1.1 迭代抛光策略 | 第41-42页 |
| 3.1.2 同步抛光与异步抛光策略 | 第42-43页 |
| 3.2 抛光材料去除模型 | 第43-49页 |
| 3.2.1 抛光机理及Preston方程 | 第43-44页 |
| 3.2.2 工具影响函数 | 第44-46页 |
| 3.2.3 材料去除函数 | 第46-49页 |
| 3.3 驻留时间计算 | 第49-53页 |
| 3.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第4章 离轴三反自由曲面的抛光实验 | 第54-64页 |
| 4.1 抛光实验条件 | 第54-56页 |
| 4.1.1 抛光实验平台 | 第54-55页 |
| 4.1.2 抛光工具头 | 第55-56页 |
| 4.2 抛光实验及结果分析 | 第56-61页 |
| 4.2.1 一镜抛光实验 | 第56-60页 |
| 4.2.2 一镜和三镜的抛光 | 第60-61页 |
| 4.3 本章小结 | 第61-64页 |
| 第5章 结论与展望 | 第64-66页 |
| 5.1 结论 | 第64-65页 |
| 5.2 展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
