| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 半导体光催化技术研究现状 | 第11-13页 |
| 1.2.1 半导体光催化氧化机理 | 第11-12页 |
| 1.2.2 光催化技术的应用 | 第12-13页 |
| 1.3 一维 TiO_2纳米材料的研究进展 | 第13-14页 |
| 1.3.1 一维 TiO_2纳米材料的研究现状 | 第13页 |
| 1.3.2 一维 TiO_2制备方法简介 | 第13-14页 |
| 1.4 Bi_2WO_6的研究进展 | 第14-16页 |
| 1.4.1 Bi_2WO_6的结构简介 | 第14-15页 |
| 1.4.2 Bi_2WO_6的制备方法 | 第15-16页 |
| 1.5 异质结构复合物 | 第16-17页 |
| 1.6 课题研究的目的及意义 | 第17页 |
| 1.7 本课题的研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 实验材料与研究方法 | 第19-26页 |
| 2.1 实验试剂与设备 | 第19-20页 |
| 2.2 光催化剂的制备 | 第20-22页 |
| 2.2.1 TiO_2纳米线的制备 | 第20-21页 |
| 2.2.2 Bi_2WO_6@TiO_2纳米线复合催化剂的制备 | 第21-22页 |
| 2.3 光催化剂的表征 | 第22-24页 |
| 2.3.1 X-射线衍射 | 第22-23页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜 | 第23页 |
| 2.3.3 透射电子显微镜 | 第23页 |
| 2.3.4 紫外-可见吸收光谱 | 第23-24页 |
| 2.3.5 光致发光光谱 | 第24页 |
| 2.3.6 电化学阻抗谱 | 第24页 |
| 2.4 光催化降解实验 | 第24-25页 |
| 2.5 本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 Bi_2WO_6@TiO_2纳米线复合催化剂的制备及表征分析 | 第26-37页 |
| 3.1 X-射线衍射分析 | 第26-28页 |
| 3.2 扫描电子显微镜分析 | 第28-30页 |
| 3.3 透射电子显微镜分析 | 第30-32页 |
| 3.4 紫外-可见吸收光谱分析 | 第32-33页 |
| 3.5 光致发光光谱分析 | 第33-34页 |
| 3.6 交流阻抗谱分析 | 第34-35页 |
| 3.7 本章小结 | 第35-37页 |
| 第4章 光催化降解性能研究 | 第37-47页 |
| 4.1 催化剂的制备工艺对光降解性能的影响 | 第37-43页 |
| 4.1.1 Bi_2WO_6的复合配比对光降解性能的影响 | 第37-41页 |
| 4.1.2 钛源对光降解性能的影响 | 第41页 |
| 4.1.3 水热温度对光降解性能的影响 | 第41-42页 |
| 4.1.4 溶剂对光降解性能的影响 | 第42-43页 |
| 4.2 光催化降解体系对光降解性能的影响 | 第43-45页 |
| 4.2.1 催化剂的投加量对光降解性能的影响 | 第43-44页 |
| 4.2.2 降解液的初始浓度对光降解性能的影响 | 第44-45页 |
| 4.3 光催化性能提高机制分析 | 第45-46页 |
| 4.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-54页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
