第一章 绪论 | 第10-34页 |
1.1 纳米技术、纳米材料特性及应用 | 第10-13页 |
1.1.1 纳米技术 | 第10页 |
1.1.2 纳米材料特性及应用 | 第10-13页 |
1.2 纳米复合材料的制备方法 | 第13-16页 |
1.2.1 填充或增强材料 | 第13-14页 |
1.2.2 直接分散法 | 第14-15页 |
1.2.3 原位聚合法 | 第15页 |
1.2.4 前驱体法 | 第15页 |
1.2.5 插层-原位聚合法 | 第15页 |
1.2.6 溶胶-凝胶(sol-gel)法 | 第15-16页 |
1.3 环氧树脂 | 第16-25页 |
1.3.1 环氧树脂的发展及现状 | 第16-17页 |
1.3.2 EP的固化 | 第17-19页 |
1.3.3 嵌段、接枝聚合改性EP | 第19-22页 |
1.3.4 有机硅改性EP | 第22-25页 |
1.4 EP纳米复合材料 | 第25-30页 |
1.4.1 插层法 | 第25-27页 |
1.4.2 分散法 | 第27-30页 |
1.5 课题背景、内容和意义 | 第30-34页 |
1.5.1 课题背景 | 第30-31页 |
1.5.2 选题依据 | 第31-32页 |
1.5.3 选题内容及意义 | 第32-34页 |
第二章 纳米SiO2的分散与改性 | 第34-48页 |
2.1 纳米SiO2的制备 | 第34-36页 |
2.1.1 Sol-gel法 | 第35页 |
2.1.2 化学沉淀法 | 第35页 |
2.1.3 超重力法 | 第35页 |
2.1.4 共沸蒸馏法 | 第35-36页 |
2.2 纳米SiO2的分散 | 第36-39页 |
2.2.1 分散机理 | 第36-38页 |
2.2.2 超声分散 | 第38-39页 |
2.3 纳米粒子的表面改性 | 第39-42页 |
2.3.1 聚醚多胺改性 | 第40-41页 |
2.3.2 TDI改性 | 第41页 |
2.3.3 多糖改性 | 第41-42页 |
2.3.4 偶联剂改性 | 第42页 |
2.4 纳米SiO2对复合材料机械性能的影响 | 第42-45页 |
2.4.1 纳米SiO2/PMMA | 第42-43页 |
2.4.2 纳米SiO2/EP | 第43页 |
2.4.3 纳米SiO2/PP | 第43-44页 |
2.4.4 纳米SiO2/PPESK和纳米SiO2/PVC | 第44-45页 |
2.5 纳米SiO2对复合材料电学性能的影响 | 第45-46页 |
2.5.1 纳米SiO2/PEO/LiClO | 第445-46页 |
2.5.2 纳米SiO2/Si | 第46页 |
2.5.3 纳米SiO2/Au,纳米SiO2/Pt | 第46页 |
2.6 小结 | 第46-48页 |
第三章 纳米SiO2/TEOS/EP复合体系的制备与表征 | 第48-60页 |
3.1 实验部分 | 第48-52页 |
3.1.1 原料 | 第48-50页 |
3.1.2 纳米SiO2/TEOS/EP复合体系的制备 | 第50-51页 |
3.1.3 测试方法 | 第51-52页 |
3.2 结果与讨论 | 第52-59页 |
3.2.1 IR分析 | 第52-54页 |
3.2.2 TG分析 | 第54-56页 |
3.2.3 SEM分析 | 第56-59页 |
3.3 小结 | 第59-60页 |
第四章 纳米SiO2/TEOS改性EP/MA固化体系的研究 | 第60-73页 |
4.1 实验 | 第60-63页 |
4.1.1 原料 | 第60页 |
4.1.2 单因素实验 | 第60-61页 |
4.1.3 均匀设计 | 第61-62页 |
4.1.4 试样制备 | 第62-63页 |
4.1.5 测试方法 | 第63页 |
4.2 单因素实验 | 第63-66页 |
4.2.1 IR分析 | 第63-64页 |
4.2.2 TG分析 | 第64-66页 |
4.3 均匀实验 | 第66-72页 |
4.3.1 IR分析 | 第66-67页 |
4.3.2 建立回归分析模型 | 第67-68页 |
4.3.3 各组分对Td的影响 | 第68-69页 |
4.3.4 各组分对T0.8的影响 | 第69页 |
4.3.5 各组分对m%的影响 | 第69-70页 |
4.3.6 各组分对ρv的影响 | 第70-72页 |
4.4 小结 | 第72-73页 |
第五章 纳米SiO2/有机硅(1053)改性EP/PA固化体系的研究 | 第73-85页 |
5.1 实验 | 第73-75页 |
5.1.1 原料 | 第73-74页 |
5.1.2 试样制备 | 第74页 |
5.1.3 测试 | 第74-75页 |
5.2 结果与讨论 | 第75-84页 |
5.2.1 IR分析 | 第75-76页 |
5.2.2 TG分析 | 第76-77页 |
5.2.3 冲击实验及SEM分析 | 第77-83页 |
5.2.4 体积电阻率 | 第83-84页 |
5.3 小结 | 第84-85页 |
第六章 制备工艺对纳米SiO2/有机硅(1053)/EP体系性能的影响 | 第85-109页 |
6.1 实验 | 第85-87页 |
6.1.1 原料 | 第85页 |
6.1.2 试样制备 | 第85页 |
6.1.3 均匀实验 | 第85-86页 |
6.1.4 耐湿热试验 | 第86页 |
6.1.5 测试 | 第86-87页 |
6.2 均匀设计实验结果与分析 | 第87-104页 |
6.2.1 各因素对Td的影响 | 第87-91页 |
6.2.2 各因素对T0.8的影响 | 第91-96页 |
6.2.3 各因素对m%的影响 | 第96-100页 |
6.2.4 各因素对logρv的影响 | 第100-104页 |
6.3 耐湿热试验结果与分析 | 第104-107页 |
6.3.1 纳米SiO2对薄膜电阻耐湿热性能的影响 | 第105-106页 |
6.3.2 溶剂对薄膜电阻耐湿热性能的影响 | 第106-107页 |
6.3.3 涂层厚度对薄膜电阻耐湿热性能的影响 | 第107页 |
6.4 小结 | 第107-109页 |
第七章 结论 | 第109-111页 |
参考文献 | 第111-120页 |
发表论文和科研情况说明 | 第120-121页 |
致 谢 | 第121页 |