| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 符号说明 | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 印染废水概况及处理技术 | 第12-16页 |
| 1.1.1 印染废水污染概况 | 第12-13页 |
| 1.1.2 传统印染废水处理方法 | 第13-15页 |
| 1.1.3 微波辅助印染废水处理方法 | 第15-16页 |
| 1.2 半导体光催化剂概述 | 第16-18页 |
| 1.2.1 半导体催化剂 | 第16页 |
| 1.2.2 半导体催化剂光催化机理 | 第16-17页 |
| 1.2.3 半导体光催化剂在环境方面的运用 | 第17-18页 |
| 1.3 BiVO_4的合成及光降解印染废水研究进展 | 第18-21页 |
| 1.3.1 BiVO_4的合成方法 | 第18-19页 |
| 1.3.2 水热法制备 | 第19页 |
| 1.3.3 微波辅助水热法制备BiVO_4 | 第19-20页 |
| 1.3.4 BiVO_4催化降解印染废水研究进展 | 第20-21页 |
| 1.4 研究意义及内容 | 第21-22页 |
| 第二章 BiVO_4的优化合成及其表征 | 第22-49页 |
| 2.1 实验原料及表征测试 | 第22-27页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第22-23页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第23-25页 |
| 2.1.3 材料表征方法 | 第25-27页 |
| 2.2 微波水热制备 | 第27-28页 |
| 2.2.1 优化合成方法 | 第27页 |
| 2.2.2 化学测试分析方法 | 第27-28页 |
| 2.3 制备影响因素分析 | 第28-46页 |
| 2.3.1 微波水热反应Bi浓度的影响 | 第28-29页 |
| 2.3.2 微波水热反应CMC浓度的影响 | 第29-30页 |
| 2.3.3 微波水热反应pH值的影响 | 第30-34页 |
| 2.3.4 微波水热温度的影响 | 第34-38页 |
| 2.3.5 微波水热时间的影响 | 第38-42页 |
| 2.3.6 煅烧温度的影响 | 第42页 |
| 2.3.7 不同煅烧时间的影响 | 第42-46页 |
| 2.4 催化剂生长机理探讨 | 第46-47页 |
| 2.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 第三章 BiVO_4的光催化性能及其循环利用研究 | 第49-61页 |
| 3.1 实验方法 | 第49-50页 |
| 3.1.1 催化影响因素实验 | 第49-50页 |
| 3.1.2 循环利用实验 | 第50页 |
| 3.2 光催化结果与讨论 | 第50-58页 |
| 3.2.1 催化剂投加量的影响 | 第50-51页 |
| 3.2.2 染液初始浓度的影响 | 第51-53页 |
| 3.2.3 光照时间的影响 | 第53-54页 |
| 3.2.4 染液初始pH值的影响 | 第54-56页 |
| 3.2.5 循环利用性能分析 | 第56-58页 |
| 3.3 合成及催化效果比较 | 第58-59页 |
| 3.4 染料降解机理探讨 | 第59-60页 |
| 3.5 本章小结 | 第60-61页 |
| 第四章 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 攻读学位期间发表学位论文目录 | 第70页 |