| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 VCSELs概述 | 第10-15页 |
| 1.1.1 VCSELs的概念 | 第10-12页 |
| 1.1.2 VCSELs的优势 | 第12-14页 |
| 1.1.3 VCSELs的研究方向及应用 | 第14-15页 |
| 1.2 电流均匀分布VCSELs的研究意义与研究现状 | 第15-20页 |
| 1.2.1 电流均匀分布VCSELs研究意义 | 第15-16页 |
| 1.2.2 电流均匀分布VCSELs研究现状 | 第16-20页 |
| 1.3 银纳米线透明导电膜的发展与应用 | 第20-21页 |
| 1.4 本论文的研究工作 | 第21-24页 |
| 第2章 VCSELs基本理论 | 第24-38页 |
| 2.1 VCSELs基本结构和工作原理 | 第24-27页 |
| 2.1.1 VCSELs基本结构 | 第24-26页 |
| 2.1.2 VCSELs工作原理 | 第26-27页 |
| 2.2 VCSELs反射镜 | 第27-30页 |
| 2.2.1 DBR的工作原理 | 第28-30页 |
| 2.2.2 周期对数对DBR的影响 | 第30页 |
| 2.3 VCSELs特性参数 | 第30-33页 |
| 2.4 VCSELs中载流子浓度分布特性 | 第33-36页 |
| 2.5 本章小结 | 第36-38页 |
| 第3章 电流均匀分布VCSELs器件制备 | 第38-50页 |
| 3.1 工艺流程 | 第39-41页 |
| 3.2 器件制备关键工艺 | 第41-45页 |
| 3.2.1 湿法腐蚀 | 第41-43页 |
| 3.2.2 湿氮氧化 | 第43-45页 |
| 3.3 银纳米线结构及其特性 | 第45-48页 |
| 3.3.1 银纳米线结构 | 第45-46页 |
| 3.3.2 银纳米线特性 | 第46-47页 |
| 3.3.3 旋涂方法铺设银纳米线 | 第47-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第4章 测试结果与分析 | 第50-60页 |
| 4.1 不同氧化孔径器件P-I-V特性 | 第52-53页 |
| 4.2 有无银纳米器件性能参数对比 | 第53-58页 |
| 4.2.1 P-I-V特性对比 | 第53-55页 |
| 4.2.2 串联电阻分析 | 第55-56页 |
| 4.2.3 器件光谱测试分析 | 第56-57页 |
| 4.2.4 近场和远场测试分析 | 第57-58页 |
| 4.3 本章小结 | 第58-60页 |
| 第5章 总结与展望 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |