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基于H2O2的高级氧化技术降解不同水基质中痕量农药的研究

中文摘要第3-5页
Abstract第5-7页
第一章 绪论第12-42页
    1.1 引言第12页
    1.2 农药概述第12-15页
        1.2.1 农药使用现状及问题第12-14页
        1.2.2 目标农药简介第14-15页
    1.3 水体微污染主要处理技术第15-23页
        1.3.1 物理法第15-17页
        1.3.2 化学法第17-23页
    1.4 H_2O_2高级氧化技术第23-33页
        1.4.1 高级氧化技术定义及基本机理第23-24页
        1.4.2 H_2O_2高级氧化技术第24-32页
        1.4.3 H_2O_2高级氧化技术需注意的问题第32-33页
    1.5 课题研究内容、研究意义及技术路线第33-35页
        1.5.1 立题意义第33-34页
        1.5.2 本论文的研究内容第34页
        1.5.3 技术路线第34-35页
    参考文献第35-42页
第二章 实验仪器、试剂和方法第42-52页
    2.1 试剂与仪器第42-44页
        2.1.1 实验主要试剂第42-43页
        2.1.2 实验仪器第43-44页
        2.1.3 目标农药的理化性质第44页
    2.2 实验方法第44-50页
        2.2.1 溶液配制第44-45页
        2.2.2 O_3氧化实验第45-47页
        2.2.3 UV光解实验第47-48页
        2.2.4 毒性测试实验第48-50页
    2.3 分析测试方法第50-52页
        2.3.1 液相O_3浓度检测第50页
        2.3.2 H_2O_2浓度测定第50页
        2.3.3 水质参数测定第50页
        2.3.4 目标物检测第50页
        2.3.5 中间产物检测第50-52页
第三章 O_3氧化溴苯腈和氟乐灵的反应速率常数确定第52-66页
    3.1 结果与讨论第52-63页
        3.1.1 直接速率常数第52-60页
        3.1.2 间接速率常数第60-62页
        3.1.3 毒性研究第62-63页
    3.2 结论第63-64页
    参考文献第64-66页
第四章 O_3和O_3/H_2O_2降解不同水基质中溴苯腈和氟乐灵第66-85页
    4.1 结果与讨论第66-82页
        4.1.1 反应速率常数第66-67页
        4.1.2 影响因素分析第67-73页
        4.1.3 农药降解实验第73-76页
        4.1.4 毒性研究第76-77页
        4.1.5 动力学研究第77-80页
        4.1.6 氧化模型第80-82页
    4.2 结论第82-83页
    参考文献第83-85页
第五章 UV和UV/H_2O_2光解不同水基质中溴苯腈和氟乐灵第85-102页
    5.1 结果与讨论第85-98页
        5.1.1 超纯水基质中的农药直接UV光解实验第85-89页
        5.1.2 自然水基质中的农药直接UV光解实验第89-92页
        5.1.3 UV/H_2O_2光解实验第92-94页
        5.1.4 动力学研究第94-96页
        5.1.5 电能效率第96-98页
        5.1.6 毒性研究第98页
    5.2 结论第98-100页
    参考文献第100-102页
第六章 溴苯腈高级氧化降解反应历程研究第102-115页
    6.1 结果与讨论第102-113页
        6.1.1 O_3氧化中间产物的鉴别第102-104页
        6.1.2 超纯水基质中的BMN氧化实验第104-106页
        6.1.3 自然水基质中的BMN氧化实验第106-108页
        6.1.4 O_3/H_2O_2氧化BMN的机理研究第108-110页
        6.1.5 UV/H_2O_2光解BMN的中间产物鉴别第110-111页
        6.1.6 自然水基质中的BMN光解实验第111-112页
        6.1.7 UV/H_2O_2光解BMN的机理研究第112-113页
    6.2 结论第113-114页
    参考文献第114-115页
第七章 氟乐灵高级氧化降解反应历程研究第115-127页
    7.1 结论与讨论第115-125页
        7.1.1 O_3氧化中间产物的鉴别第115-117页
        7.1.2 超纯水基质中的TFL氧化实验第117-118页
        7.1.3 自然水基质中的TFL氧化实验第118-120页
        7.1.4 O3/H_2O_2氧化TFL的机理研究第120-122页
        7.1.5 UV/H_2O_2光解TFL的中间产物鉴别第122-123页
        7.1.6 自然水基质中的TFL光解实验第123-124页
        7.1 .7 UV/H_2O_2光解TFL的机理研究第124-125页
    7.2 结论第125-126页
    参考文献第126-127页
第八章 结论第127-130页
    8.1 主要结论第127-128页
    8.2 研究展望第128-130页
在学期间的研究成果第130-131页
致谢第131-132页
附录A 残留O_3测定第132-134页
    A.1 直接紫外分光光度法第132页
    A.2 靛蓝法第132-134页
        A.2.1 干扰物第132页
        A.2.2 最小检测浓度第132-133页
        A.2.3 靛蓝储备液制备第133页
        A.2.4 靛蓝储备液核对第133页
        A.2.5 步骤第133页
        A.2.6 O_3浓度计算第133-134页
附录B 标准曲线第134-141页
    B.1 HPLC标准曲线第134-140页
    B.2 TOC标准曲线第140-141页
附录C UV强度计算第141-143页
    C.1 理论背景第141-142页
    C.2 计算示例第142-143页

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