| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 1 绪论 | 第9-25页 |
| 1.1 THz技术的发展现状及应用 | 第9-12页 |
| 1.2 THz偏振的基本原理 | 第12-17页 |
| 1.3 THz偏振器的研究现状 | 第17-23页 |
| 1.4 本文主要研究内容及方法 | 第23-25页 |
| 2 金属线栅型THz偏振器的仿真与参数优化 | 第25-35页 |
| 2.1 金属线栅型THz偏振器的工作原理 | 第25-26页 |
| 2.2 CST STUDIO仿真软件介绍 | 第26页 |
| 2.3 金属线栅型THz偏振器不同衬底材料的仿真对比 | 第26-29页 |
| 2.4 金属线栅型THz偏振器线栅材料的对比与选择 | 第29-30页 |
| 2.5 金属线栅型THz偏振器线栅周期、宽度及厚度的影响 | 第30-35页 |
| 3 两面双层金属线栅型THz偏振器的设计与优化 | 第35-49页 |
| 3.1 线栅型THz偏振器的优化方案 | 第35-41页 |
| 3.1.1 高占空比的线栅型THz偏振器 | 第35-36页 |
| 3.1.2 低损耗线栅型THz偏振器 | 第36-38页 |
| 3.1.3 双面/双层结构线栅型THz偏振器 | 第38-41页 |
| 3.2 两面双层金属线栅型THz偏振器的设计 | 第41-42页 |
| 3.3 两面双层金属线栅型THz偏振器的仿真 | 第42-45页 |
| 3.4 两面双层金属线栅型THz偏振器的参数优化 | 第45-49页 |
| 4 两面双层线栅型THz偏振器的加工与测试 | 第49-65页 |
| 4.1 微纳加工技术简介 | 第49-50页 |
| 4.2 两面双层金属线栅型THz偏振器的加工 | 第50-61页 |
| 4.2.1 基片的处理 | 第51-52页 |
| 4.2.2 光刻工艺 | 第52-55页 |
| 4.2.3 刻蚀工艺 | 第55-60页 |
| 4.2.4 镀膜 | 第60-61页 |
| 4.3 样品的测试 | 第61-65页 |
| 5 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 作者简历 | 第73-75页 |
| 学位论文数据集 | 第75页 |
