周期性纳米金属粒子表面等离子体共振的调控及应用
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第12-40页 |
| 1.1 概述 | 第12页 |
| 1.2 拉曼散射 | 第12-14页 |
| 1.3 表面增强拉曼散射 | 第14-16页 |
| 1.3.1 表面增强拉曼散射 | 第14-15页 |
| 1.3.2 增强机理 | 第15页 |
| 1.3.3 基底性能 | 第15-16页 |
| 1.4 表面等离子体激元 | 第16-26页 |
| 1.4.1 金属表面自由电子模型 | 第17-20页 |
| 1.4.2 表面等离子体激元色散特性 | 第20-23页 |
| 1.4.3 局域表面等离激元 | 第23-26页 |
| 1.5 样品制备技术概述 | 第26-37页 |
| 1.5.1 自下而上自组装技术 | 第27-33页 |
| 1.5.2 自上而下光刻技术 | 第33-37页 |
| 1.6 本论文研究内容 | 第37-40页 |
| 2 光刻方法制备SERS基底 | 第40-55页 |
| 2.1 研究背景 | 第40页 |
| 2.2 光刻方法概述 | 第40-41页 |
| 2.3 光刻方法的比较 | 第41-42页 |
| 2.4 电子束光刻 | 第42-49页 |
| 2.4.1 电子束光刻概述 | 第42-43页 |
| 2.4.2 样品制备 | 第43-44页 |
| 2.4.3 尺寸 | 第44-45页 |
| 2.4.4 大面积 | 第45-46页 |
| 2.4.5 形状 | 第46-47页 |
| 2.4.6 构形 | 第47-49页 |
| 2.5 X射线干涉光刻 | 第49-54页 |
| 2.5.1 X射线干涉光刻概述 | 第49页 |
| 2.5.2 样品制备 | 第49-50页 |
| 2.5.3 形貌表征 | 第50-51页 |
| 2.5.4 SERS研究 | 第51-54页 |
| 2.6 本章小结 | 第54-55页 |
| 3 三明治结构的SERS研究 | 第55-74页 |
| 3.1 概述 | 第55页 |
| 3.2 样品制备 | 第55-57页 |
| 3.3 反射率测量 | 第57-58页 |
| 3.4 理论与模拟 | 第58-63页 |
| 3.5 影响因素 | 第63-70页 |
| 3.5.1 尺寸 | 第63-66页 |
| 3.5.2 折射率 | 第66-67页 |
| 3.5.3 膜厚 | 第67-69页 |
| 3.5.4 周期 | 第69-70页 |
| 3.6 SERS性能 | 第70-72页 |
| 3.6.1灵敏度 | 第70页 |
| 3.6.2 均匀性 | 第70-71页 |
| 3.6.3 重复性 | 第71-72页 |
| 3.7 本章小结 | 第72-74页 |
| 4 多波长共振的SERS研究 | 第74-88页 |
| 4.1 概述 | 第74-75页 |
| 4.2 样品制备 | 第75-78页 |
| 4.3 理论与模拟 | 第78-81页 |
| 4.4 共振频率测试分析 | 第81-82页 |
| 4.5 近场光学测试分析 | 第82-85页 |
| 4.6 SERS测试分析 | 第85-87页 |
| 4.7 本章小结 | 第87-88页 |
| 5 总结与展望 | 第88-92页 |
| 5.1 工作总结 | 第88页 |
| 5.2 创新点 | 第88-89页 |
| 5.3 研究展望 | 第89-92页 |
| 参考文献 | 第92-106页 |
| 论文发表及专利申请情况 | 第106-107页 |
| 致谢 | 第107页 |
