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超薄不锈钢基板CMP过程中抛光液流动特性研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第14-26页
    1.1 课题研究背景第14-17页
    1.2 课题研究意义第17-19页
    1.3 国内外研究现状第19-23页
        1.3.1 CMP中材料接触机制的研究第19-20页
        1.3.2 抛光液流动特性研究第20-22页
        1.3.3 CMP过程输入参数研究第22-23页
    1.4 课题来源及其主要研究内容第23-25页
        1.4.1 课题来源第23-24页
        1.4.2 主要研究内容第24-25页
    1.5 本章小结第25-26页
第二章 不锈钢基板CMP过程抛光液流场实验方案的设计第26-37页
    2.1 不锈钢基板抛光液流场实验研究方法第26页
    2.2 抛光实验设备及实验材料第26-29页
        2.2.1 抛光实验设备第26-27页
        2.2.2 抛光实验材料第27-29页
    2.3 高速摄影仪在线检测平台第29-34页
        2.3.1 高速摄影仪在线检测平台原理第29-30页
        2.3.2 高速摄影仪在线检测平台实验仪器及实验参数第30-32页
        2.3.3 实验数据处理方法第32-34页
    2.4 不锈钢基板抛光效果的评价指标第34-36页
    2.5 本章小结第36-37页
第三章 不锈钢基板CMP中流体动力模型的建立第37-52页
    3.1 不锈钢基板与抛光垫的接触方式状态分析第37-39页
    3.2 不锈钢基板CMP过程中抛光液流体润滑特性分析第39-41页
        3.2.1 抛光液流体润滑基本理论第39页
        3.2.2 抛光液流体润滑的基本假设第39-40页
        3.2.3 抛光液流体润滑的基本方程第40-41页
    3.3 不锈钢基板CMP过程中抛光液流场的运动分析第41-48页
        3.3.1 抛光液流体运动方程第42-43页
        3.3.2 抛光液流体的速度方程第43-45页
        3.3.3 抛光液流体流量方程第45-46页
        3.3.4 抛光液流场的雷诺方程第46-48页
    3.4 不锈钢基板与抛光垫之间的液膜分析第48-50页
    3.5 不锈钢基板抛光液流场平衡条件第50-51页
    3.6 本章小结第51-52页
第四章 不锈钢基板CMP中抛光液流场的数值模拟第52-65页
    4.1 抛光液流场数值模拟方法第52-55页
    4.2 抛光液流场数值计算参数第55页
    4.3 抛光速度对不锈钢基板抛光液流场的影响规律第55-59页
        4.3.1 抛光速度对液膜压力的影响第55-58页
        4.3.2 抛光转速对液膜厚度的影响第58-59页
    4.4 抛光载荷对不锈钢基板抛光液流场的影响规律第59-62页
        4.4.1 抛光载荷对液膜压力的影响第59-61页
        4.4.2 抛光载荷对液膜厚度的影响第61-62页
    4.5 不锈钢基板变形量对抛光液流场液膜压力的影响第62-64页
    4.6 本章小结第64-65页
第五章 不锈钢基板CMP过程中抛光液流场实验结果与分析第65-81页
    5.1 抛光速度对不锈钢基板抛光液流场及抛光效果影响规律研究第65-68页
    5.2 抛光载荷对不锈钢基板抛光液流场及抛光效果影响规律研究第68-71页
    5.3 抛光垫沟槽结构对不锈钢基板抛光液流场及抛光效果影响规律研究第71-76页
        5.3.1 无沟槽抛光垫对不锈钢基板抛光液流场及抛光效果影响规律研究第71-72页
        5.3.2 有槽抛光垫对不锈钢基板抛光液流场及抛光效果影响规律研究第72-76页
    5.4 磨粒粒径对不锈钢基板抛光液流场及抛光效果影响规律研究第76-78页
    5.5 数值模拟与实验数据结果分析第78-80页
        5.5.1 抛光速度对抛光液流场影响的数值模拟与实验结果对比分析第78-79页
        5.5.2 抛光载荷对抛光液流场数值模拟与实验结果对比分析第79-80页
    5.6 本章小结第80-81页
结论与展望第81-83页
参考文献第83-87页
攻读硕士学位期间发表的论文第87-89页
致谢第89页

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