摘要 | 第6-8页 |
ABSTRACT | 第8-9页 |
第一章 绪论 | 第13-39页 |
1.1 前言 | 第13-14页 |
1.2 高熵合金 | 第14-24页 |
1.2.1 高熵合金的定义 | 第14页 |
1.2.2 高熵合金的核心效应 | 第14-20页 |
1.2.3 高熵合金的形成理论依据 | 第20-24页 |
1.3 高熵合金的研究进展 | 第24-34页 |
1.3.1 高熵合金的组织结构特点 | 第24-29页 |
1.3.2 高熵合金的性能特点 | 第29-34页 |
1.4 表面改性与激光熔覆技术 | 第34-36页 |
1.4.1 激光熔覆的原理及特点 | 第34-35页 |
1.4.2 激光熔覆制备高熵合金 | 第35-36页 |
1.5 第一性原理计算技术基本理论 | 第36-37页 |
1.6 研究内容与技术路线 | 第37-39页 |
1.6.1 研究内容 | 第37-38页 |
1.6.2 技术路线 | 第38-39页 |
第二章 实验材料与方法 | 第39-47页 |
2.1 实验材料 | 第39-41页 |
2.1.1 基体材料 | 第39页 |
2.1.2 激光熔覆粉末材料 | 第39-40页 |
2.1.3 激光熔覆预置层制备 | 第40-41页 |
2.2 高熵合金涂层的制备 | 第41-43页 |
2.3 激光熔覆涂层组织结构分析 | 第43页 |
2.3.1 金相照片的拍摄 | 第43页 |
2.3.2 X射线衍射试验 | 第43页 |
2.3.3 扫描电子显微试验及能谱分析 | 第43页 |
2.4 激光熔覆涂层性能分析 | 第43-44页 |
2.4.1 激光熔覆涂层维氏硬度测量 | 第43-44页 |
2.4.2 激光熔覆涂层电化学腐蚀性能测试 | 第44页 |
2.5 第一性原理计算方法 | 第44-47页 |
2.5.1 结合能与生成焓 | 第44-45页 |
2.5.2 弹性常数及模量 | 第45页 |
2.5.3 态密度 | 第45-47页 |
第三章 TiZrVMo系列合金粉末的选择 | 第47-71页 |
3.1 经验参数的计算 | 第47-51页 |
3.2 第一性原理研究 | 第51-69页 |
3.2.1 引言 | 第51-53页 |
3.2.2 相结构 | 第53-55页 |
3.2.3 热力学 | 第55-58页 |
3.2.4 平衡体积 | 第58-59页 |
3.2.5 结合能与形成焓 | 第59-60页 |
3.2.6 弹性常数与模量 | 第60-64页 |
3.2.7 弹性各向异性 | 第64-66页 |
3.2.8 态密度 | 第66-69页 |
3.3 本章小结 | 第69-71页 |
第四章 激光熔覆TiZrVMo-x(x=Ta,Nb,TaNb)高熵合金涂层的组织结构与性能 | 第71-83页 |
4.1 引言 | 第71页 |
4.2 激光熔覆TiZrVMo-x(x=Ta,Nb,TaNb)高熵合金涂层宏观形貌 | 第71-73页 |
4.3 激光熔覆TiZrVMo-x(x=Ta,Nb,TaNb)高熵合金涂层微观组织 | 第73-74页 |
4.4 激光熔覆TiZrVMo-x(x=Ta,Nb,TaNb)高熵合金涂层物相分析 | 第74-76页 |
4.5 激光熔覆TiZrVMo-x(x=Ta,Nb,TaNb)高熵合金涂层的微观结构及微区成分分析 | 第76-79页 |
4.6 激光熔覆TiZrVMo-x(x=Ta,Nb,TaNb)高熵合金涂层显微硬度 | 第79-80页 |
4.7 激光熔覆TiZrVMo-x(x=Ta,Nb,TaNb)高熵合金涂层电化学腐蚀性能 | 第80-81页 |
4.8 本章小结 | 第81-83页 |
第五章 结论与展望 | 第83-85页 |
5.1 结论 | 第83-84页 |
5.2 展望 | 第84-85页 |
致谢 | 第85-87页 |
参考文献 | 第87-93页 |
附录 | 第93页 |