| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-24页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 TiO_2的结构及应用 | 第10-13页 |
| 1.2.1 TiO_2的结构 | 第10-11页 |
| 1.2.2 TiO_2的应用 | 第11-13页 |
| 1.3 TiO_2纳米材料合成方法 | 第13-17页 |
| 1.3.1 溶胶-凝胶法 (Sol-Gel) | 第13-14页 |
| 1.3.2 化学气相沉积法 (CVD) | 第14页 |
| 1.3.3 物理气相沉积法 (PVD) | 第14页 |
| 1.3.4 离子注入方法 (Ion implantation) | 第14-17页 |
| 1.4 TiO_2改性研究进展 | 第17-21页 |
| 1.4.1 TiO_2与其它半导体耦合 | 第17-18页 |
| 1.4.2 金属/非金属离子掺杂 | 第18-20页 |
| 1.4.3 TiO_2表面沉积贵金属 | 第20-21页 |
| 1.4.4 TiO_2表面敏化 | 第21页 |
| 1.5 离子注入合成和改性TiO_2的研究现状 | 第21-22页 |
| 1.6 本论文的选题意义和主要研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 实验过程及测试方法 | 第24-32页 |
| 2.1 样品的制备及热退火处理 | 第24-25页 |
| 2.1.1 样品的离子注入 | 第24-25页 |
| 2.1.2 样品的热退火处理 | 第25页 |
| 2.2 材料表征方法 | 第25-32页 |
| 2.2.1 紫外-可见光吸收 (UV-Vis) | 第25-26页 |
| 2.2.2 掠射角X射线衍射 (GIXRD) | 第26页 |
| 2.2.3 拉曼散射 (Raman scattering) | 第26-27页 |
| 2.2.4 横截面透射电子显微镜 (TEM) | 第27-28页 |
| 2.2.5 扫描电子显微镜 (SEM) | 第28-29页 |
| 2.2.6 原子力显微镜 (AFM) | 第29-30页 |
| 2.2.7 光致发光谱 (PL) | 第30-32页 |
| 第三章 Zn离子预注入对合成TiO_2的结构、光学性质以及表面形貌的影响 | 第32-47页 |
| 3.1 氧气气氛不同退火条件下合成TiO_2 | 第32-35页 |
| 3.1.1 UV-Vis测试结果及分析 | 第32-34页 |
| 3.1.2 AFM测试与分析 | 第34-35页 |
| 3.2 TiO_2纳米棒的合成与表征及预注入Zn离子剂量的影响 | 第35-42页 |
| 3.2.1 XTEM测试与分析 | 第35-36页 |
| 3.2.2 GIXRD测试与分析 | 第36-38页 |
| 3.2.3 Raman测试与分析 | 第38-39页 |
| 3.2.4 SEM结果分析 | 第39-40页 |
| 3.2.5 UV-Vis分析 | 第40-42页 |
| 3.3 N_2气氛退火形成TiO_2 | 第42-45页 |
| 3.3.1 GIXRD测试与分析 | 第42-43页 |
| 3.3.2 AFM测试与分析 | 第43-44页 |
| 3.3.3 UV-Vis测试与分析 | 第44-45页 |
| 3.3.4 不同退火气氛下合成TiO_2比较 | 第45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 ZnO-TiO_2复合材料的光致发光性质研究 | 第47-51页 |
| 4.1 紫外-可见吸收光谱分析 | 第47-48页 |
| 4.2 掠射角X射线衍射分析 | 第48-49页 |
| 4.3 光致发光实验及分析 | 第49-50页 |
| 4.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 结论与展望 | 第51-53页 |
| 5.1 本论文的主要研究结论 | 第51-52页 |
| 5.2 展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-61页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
