表面等离子激元的激发和相干性研究
中文摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-13页 |
第一章 绪论 | 第13-33页 |
第一节 光路集成简介 | 第13-17页 |
·集成光学概念 | 第13页 |
·集成光学特点 | 第13-14页 |
·传统光学波导的瓶颈 | 第14-17页 |
第二节 表面等离子激元简介 | 第17-27页 |
·传播电磁波和倏逝波模式 | 第18-20页 |
·表面等离子激元模式 | 第20页 |
·表面等离子激元的色散关系 | 第20-23页 |
·表面等离子激元的衍射极限 | 第23页 |
·短程和长程表面等离子激元模式 | 第23-25页 |
·Gap SPP模式 | 第25-27页 |
第三节 表面等离子激元器件的制备 | 第27-31页 |
·光刻技术 | 第27-30页 |
·蚀刻技术 | 第30-31页 |
第四节 本文的研究内容 | 第31-33页 |
第二章 表面等离子激元的相干性研究 | 第33-55页 |
第一节 表面等离子激元的激发 | 第35-41页 |
·相位匹配技术 | 第35-37页 |
·表面等离子激元的电子激发 | 第37-41页 |
第二节 相干光通信技术 | 第41-42页 |
第三节 光折变效应 | 第42-48页 |
·光折变效应的概念和物理机制 | 第42-44页 |
·带输运模型 | 第44-45页 |
·光折变材料和铌酸锂 | 第45-48页 |
第四节 四层介质系统的构建 | 第48-51页 |
·四层介质系统厚度配置参数的优化 | 第48-50页 |
·表面等离子激元色散关系随空气隙厚度的变化 | 第50-51页 |
第五节 光折变全息光栅的记录 | 第51-52页 |
第六节 表面等离子激元在光折变光栅形成中的作用 | 第52-54页 |
第七节 小结 | 第54-55页 |
第三章 表面等离子激元光栅耦合器件制备 | 第55-81页 |
第一节 金属纳米颗粒制备和表征方法 | 第56-64页 |
·金属纳米颗粒的制备 | 第57-62页 |
·金属纳米颗粒的表征 | 第62-64页 |
第二节 光化学还原反应制备金属纳米颗粒 | 第64-73页 |
·化学液相合成金属纳米颗粒 | 第64-67页 |
·光化学还原反应制备银纳米颗粒 | 第67-69页 |
·光化学还原反应制备金纳米颗粒 | 第69-73页 |
第三节 金属颗粒光栅的制备 | 第73-77页 |
·利用空间电荷场在掺铁铌酸锂表面诱导金属颗粒光栅 | 第73-75页 |
·两光束干涉下的光化学还原反应制备金纳米颗粒光栅 | 第75-77页 |
第四节 表面等离子激元光栅耦合器制备 | 第77-79页 |
第五节 小结 | 第79-81页 |
第四章 总结和展望 | 第81-85页 |
参考文献 | 第85-95页 |
致谢 | 第95-97页 |
个人简历 | 第97-98页 |