电厂循环冷却水垢晶体分析及阻垢机理研究
摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-9页 |
第一章 电厂循环冷却水系统及水质质量控制 | 第9-19页 |
·电厂循环冷却水系统 | 第9-14页 |
·循环冷却水系统及换热凝汽器 | 第9-11页 |
·循环冷却水系统水质特点 | 第11-14页 |
·敞开式循环冷却水系统对水质的要求 | 第14-17页 |
·电厂循环冷却水系统对水质的要求 | 第14-15页 |
·循环冷却水系统阻垢技术的发展 | 第15-17页 |
·本文的主研究内容 | 第17-19页 |
第二章 循环冷却水阻垢处理装置 | 第19-35页 |
·循环冷却水动态模拟实验台 | 第19-25页 |
·实验台简介 | 第19-20页 |
·阻垢率的计算 | 第20-22页 |
·实验台温度控制系统 | 第22-25页 |
·实验台温度数据自动采集系统的设计与改进 | 第25-35页 |
·温度数据自动采集装置的改装 | 第25-28页 |
·DH3820控制器和采集器 | 第28-30页 |
·DHDAS信号测试分析系统软件功能简介 | 第30-35页 |
第三章 磁电协同式工业循环冷却水阻垢处理装置 | 第35-53页 |
·阻垢处理装置的结构设计 | 第35-36页 |
·阻垢处理装置高压静电场的设计与计算 | 第36-38页 |
·阻垢处理装置内部电场的形成 | 第36-37页 |
·阻垢处理装置内部电场强度的计算公式 | 第37-38页 |
·阻垢处理装置脉冲磁场的设计 | 第38-48页 |
·阻垢处理装置内部磁场的产生 | 第38-39页 |
·电磁脉冲线圈的设计 | 第39页 |
·脉冲线圈磁感应强度的测定及测量方法 | 第39-41页 |
·不同软磁性铁芯材料的影响 | 第41-44页 |
·脉冲线圈匝数的选择 | 第44-47页 |
·占空比与脉冲波型和频率的选择 | 第47-48页 |
·阻垢处理装置参数的确定及内部电磁场分析 | 第48-53页 |
·实际阻垢处理装置形状及参数的确定 | 第48-51页 |
·实际阻垢处理装置内部电场与磁场分析 | 第51-53页 |
第四章 磁电协同作用于循环冷却水的阻垢实验 | 第53-75页 |
·实验用水水质分析与配制 | 第53-54页 |
·分析方法 | 第53页 |
·实验用水配制 | 第53-54页 |
·实验用水蒸发量及水中离子损失率的测定与补充 | 第54-57页 |
·蒸发量的测定 | 第54-55页 |
·离子损失率的测定及其补充 | 第55-57页 |
·磁电协同作用于工业循环冷却水阻垢实验 | 第57-61页 |
·实验原理 | 第57-59页 |
·实验方法与仪器 | 第59页 |
·正交实验方案设计与实验 | 第59-61页 |
·正交实验结果分析 | 第61-65页 |
·正交实验污垢热阻曲线 | 第61-63页 |
·正交实验结果分析 | 第63-65页 |
·垢样的电镜扫描(SEM) | 第65-75页 |
·扫描电镜原理及扫描参数 | 第65-66页 |
·正交阻垢样品的电镜扫描图片 | 第66-75页 |
第五章 实验结果与电磁场阻垢机理分析 | 第75-91页 |
·方解石型水垢与文石型水垢 | 第75-77页 |
·方解石型水垢 | 第75-76页 |
·文石型水垢 | 第76-77页 |
·水垢晶体的SEM分析 | 第77-78页 |
·水垢晶体的XRD衍射分析 | 第78-82页 |
·X射线衍射(XRD) | 第78-79页 |
·X射线衍射(XRD)分析 | 第79-82页 |
·水垢晶体的能谱EDS分析 | 第82-87页 |
·能谱EDS分析 | 第82页 |
·正交实验阻垢率最好组的EDS能谱 | 第82-84页 |
·阻垢率最差组的EDS能谱 | 第84-87页 |
·高压静电场及变频脉冲磁场的阻垢机理分析 | 第87-91页 |
·电磁场对水分子的活化作用 | 第87页 |
·对水垢晶体生长的作用 | 第87-91页 |
第六章 结论与展望 | 第91-94页 |
·结论 | 第91-92页 |
·建议 | 第92-93页 |
·展望 | 第93-94页 |
参考文献 | 第94-97页 |
致谢 | 第97-98页 |
在读期间科研成果 | 第98页 |