| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-15页 |
| 1 绪论 | 第15-29页 |
| ·研究意义 | 第15-16页 |
| ·Bi_2O_3-SiO_2系统化合物的研究进展 | 第16-23页 |
| ·Bi_(12)SiO_20 | 第16-17页 |
| ·Bi_4Si_3O_(12) | 第17-19页 |
| ·Bi_2SiO_5 | 第19-23页 |
| ·硅酸铋熔体的研究进展 | 第23-26页 |
| ·Bi_2O_3-SiO_2系统相图 | 第23页 |
| ·硅酸铋熔体结构 | 第23-25页 |
| ·硅酸铋熔体特性 | 第25-26页 |
| ·高温热台在材料研究领域的应用 | 第26-28页 |
| ·本文主要研究内容 | 第28-29页 |
| ·硅酸铋粉体制备 | 第28页 |
| ·硅酸铋熔体性能 | 第28-29页 |
| 2 Bi_4Si_3O_(12)粉体制备 | 第29-87页 |
| ·固相法制备 Bi_4Si_3O_(12)粉体 | 第29-32页 |
| ·固相法的原理和特点 | 第29页 |
| ·实验药品与仪器 | 第29页 |
| ·实验过程 | 第29-32页 |
| ·固相法制备 Bi_4Si_3O_(12)粉体结果与讨论 | 第32-38页 |
| ·均匀实验制备 Bi_4Si_3O_(12)粉体晶相分析 | 第32-33页 |
| ·因素主次关系分析 | 第33-35页 |
| ·烧结机理 | 第35页 |
| ·均匀实验优化工艺分析 | 第35-36页 |
| ·Bi_4Si_3O_(12)粉体微观形貌分析 | 第36-38页 |
| ·熔盐法制备 Bi_4Si_3O_(12)粉体 | 第38-48页 |
| ·熔盐法的原理和特点 | 第38-39页 |
| ·熔盐法的分类和选择 | 第39-40页 |
| ·熔盐法在无机材料粉体制备中的应用 | 第40-41页 |
| ·熔盐种类影响实验 | 第41-43页 |
| ·熔盐种类影响结果与讨论 | 第43-48页 |
| ·NaCl-KCl 熔盐制备 Bi_4Si_3O_(12)粉体 | 第48-60页 |
| ·实验 | 第48-50页 |
| ·均匀实验的直观分析 | 第50-53页 |
| ·煅烧温度的影响 | 第53-55页 |
| ·盐含量的影响 | 第55-56页 |
| ·Bi_2O_3和 SiO_2过量的影响 | 第56-58页 |
| ·荧光光谱分析 | 第58页 |
| ·片状形成机理 | 第58-60页 |
| ·NaCl-KCl 熔盐制备 Bi_4Si_3O_(12)粉体动力学分析 | 第60-66页 |
| ·动力学分析基本原理 | 第60-61页 |
| ·差热分析 | 第61页 |
| ·动力学分析 | 第61-66页 |
| ·NaCl-Na_2SO_4熔盐制备 Bi_4Si_3O_(12)粉体 | 第66-79页 |
| ·实验 | 第66-68页 |
| ·原料对制备 Bi_4Si_3O_(12)粉体的影响 | 第68-70页 |
| ·煅烧温度的影响 | 第70-72页 |
| ·保温时间的影响 | 第72页 |
| ·盐含量的影响 | 第72-74页 |
| ·紫外可见光谱分析 | 第74页 |
| ·荧光光谱分析 | 第74-76页 |
| ·Bi_4Si_3O_(12)粉体的合成机理 | 第76-77页 |
| ·Bi_4Si_3O_(12)相的晶体生成动力学 | 第77-79页 |
| ·NaCl-Na_2SO_4熔盐制备 Bi_4Si_3O_(12)粉体动力学分析 | 第79-85页 |
| ·差热分析 | 第79-81页 |
| ·动力学分析 | 第81-85页 |
| ·小结 | 第85-87页 |
| 3 Bi_2SiO_5粉体制备 | 第87-132页 |
| ·固相法制备 Bi_2SiO_5粉体实验 | 第87-89页 |
| ·实验仪器与药品 | 第87-88页 |
| ·实验过程 | 第88-89页 |
| ·固相法制备 Bi_2SiO_5粉体结果与讨论 | 第89-95页 |
| ·差热分析 | 第89-90页 |
| ·晶相分析 | 第90-92页 |
| ·微观形貌分析 | 第92-93页 |
| ·Bi_2SiO_5相的晶体生成动力学 | 第93-95页 |
| ·熔盐法制备 Bi_2SiO_5粉体熔盐种类的影响 | 第95-98页 |
| ·实验 | 第95-96页 |
| ·结果与讨论 | 第96-98页 |
| ·NaCl-KCl 熔盐制备 Bi_2SiO_5粉体 | 第98-109页 |
| ·实验 | 第98-99页 |
| ·差热分析 | 第99-100页 |
| ·均匀实验的直观分析 | 第100-103页 |
| ·煅烧温度的影响 | 第103-104页 |
| ·保温时间的影响 | 第104页 |
| ·盐含量的影响 | 第104-108页 |
| ·Bi_2O_3和 SiO_2过量的影响 | 第108页 |
| ·Bi_2SiO_5粉体的合成机理 | 第108-109页 |
| ·NaCl-KCl 熔盐制备 Bi_2SiO_5粉体动力学分析 | 第109-114页 |
| ·差热分析 | 第109-110页 |
| ·动力学分析 | 第110-114页 |
| ·NaCl-Na_2SO_4熔盐制备 Bi_2SiO_5粉体 | 第114-125页 |
| ·实验 | 第114-116页 |
| ·原料对制备 Bi_2SiO_5粉体的影响 | 第116-118页 |
| ·煅烧温度的影响 | 第118-119页 |
| ·不同混料均匀程度的影响 | 第119-120页 |
| ·保温时间的影响 | 第120-123页 |
| ·盐含量的影响 | 第123-124页 |
| ·Bi_2SiO_5粉体的合成机理 | 第124-125页 |
| ·NaCl-Na_2SO_4熔盐制备 Bi_2SiO_5粉体动力学分析 | 第125-130页 |
| ·差热分析 | 第125-126页 |
| ·动力学分析 | 第126-130页 |
| ·小结 | 第130-132页 |
| 4 硅酸铋熔体密度及表面张力研究 | 第132-146页 |
| ·硅酸铋熔体密度 | 第132-140页 |
| ·实验原理与装置 | 第132-133页 |
| ·密度模拟实验 | 第133-134页 |
| ·实验步骤 | 第134-135页 |
| ·Bi_2O_3密度 | 第135-137页 |
| ·Bi_(12)SiO_20密度 | 第137-138页 |
| ·Bi_2SiO_5密度 | 第138-139页 |
| ·Bi_4Si_3O_(12)密度 | 第139-140页 |
| ·硅酸铋熔体表面张力 | 第140-145页 |
| ·实验原理与装置 | 第140-141页 |
| ·实验步骤 | 第141-142页 |
| ·Bi_2O_3表面张力 | 第142-143页 |
| ·Bi_(12)SiO_20表面张力 | 第143-144页 |
| ·Bi_2SiO_5表面张力 | 第144页 |
| ·Bi_4Si_3O_(12)表面张力 | 第144-145页 |
| ·小结 | 第145-146页 |
| 5 硅酸铋熔体实时观察及结构分析 | 第146-171页 |
| ·Bi_(12)SiO_20多晶粉体熔融和冷却过程的实时观察 | 第146-151页 |
| ·实验 | 第146-147页 |
| ·Bi_(12)SiO_20多晶粉体在熔融过程中的各向异性\可逆分相 | 第147-149页 |
| ·Bi_(12)SiO_20多晶粉体在熔融过程中的各向异性\可逆分相机理分析 | 第149-151页 |
| ·6Bi_2O_3·SiO_2熔体的冷却析晶过程 | 第151-161页 |
| ·Bi_4Si_3O_(12)枝晶析出及生长过程分析 | 第151-154页 |
| ·Bi_4Si_3O_(12)枝晶生长过程中的竞争机制 | 第154-155页 |
| ·Bi_4Si_3O_(12)枝晶高有序结构的统计分析 | 第155-157页 |
| ·SiO_2晶体析出 | 第157-161页 |
| ·Bi_4Si_3O_(12)枝晶的熔化过程 | 第161-163页 |
| ·铋硅系统光谱分析 | 第163-169页 |
| ·实验 | 第163-164页 |
| ·温度对 Bi_2O_3-SiO_2系统熔体结构的影响 | 第164-166页 |
| ·成分对 Bi_2O_3-SiO_2系统熔体结构的影响 | 第166-168页 |
| ·粘度突变温度区间内的熔体结构 | 第168-169页 |
| ·小结 | 第169-171页 |
| 6 结论 | 第171-173页 |
| 致谢 | 第173-174页 |
| 参考文献 | 第174-182页 |
| 攻读博士期间发表的论文和申请专利 | 第182-183页 |
