中文摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-9页 |
目录 | 第9-12页 |
第一章 引言 | 第12-22页 |
·透明导电薄膜的概述 | 第12页 |
·透明导电薄膜的基本特性 | 第12-16页 |
·氧化铟锡(ITO) | 第12-14页 |
·氧化锌(ZnO) | 第14-16页 |
·透明导电氧化物薄膜的研究现状 | 第16-19页 |
·In2O3薄膜及其掺杂体系 | 第16-18页 |
·ZnO 薄膜及其掺杂体系 | 第18-19页 |
·透明导电氧化物薄膜的应用 | 第19-22页 |
·ITO 薄膜的主要应用 | 第19-20页 |
·ZnO 薄膜的主要应用 | 第20-22页 |
第二章 透明导电氧化物薄膜的制备和性能检测技术 | 第22-31页 |
·透明导电氧化物薄膜的制备技术 | 第22-26页 |
·磁控溅射沉积法 | 第22-23页 |
·真空蒸发沉积法 | 第23-24页 |
·化学气相沉积(CVD)法 | 第24-25页 |
·溶胶-凝胶法 | 第25-26页 |
·喷涂热分解法 | 第26页 |
·透明导电氧化物薄膜的性能检测技术 | 第26-31页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第26-27页 |
·X 射线衍射 | 第27-28页 |
·四探针法测电阻 | 第28-29页 |
·紫外-可见分光光度计 | 第29-31页 |
第三章 溶胶-凝胶法制备ITO 薄膜及其性能的研究 | 第31-45页 |
·实验过程所需的试剂以及仪器 | 第31页 |
·ITO 薄膜的制备过程 | 第31-32页 |
·基体的预处理 | 第31页 |
·ITO 溶胶的制备 | 第31-32页 |
·ITO 薄膜的制备 | 第32页 |
·ITO 薄膜的物相结构 | 第32-37页 |
·不同热处理温度对 ITO 薄膜物相结构表征的影响 | 第33-34页 |
·不同热处理时间对 ITO 薄膜物相结构表征的影响 | 第34-35页 |
·不同掺锡溶度对 ITO 薄膜物相结构表征的影响 | 第35-37页 |
·ITO 薄膜的表面形貌 | 第37页 |
·ITO 薄膜的光学特性 | 第37-40页 |
·不同掺锡溶度对 ITO 薄膜光学特性的影响 | 第37-38页 |
·不同热处理温度对 ITO 薄膜光学特性的影响 | 第38-39页 |
·不同热处理时间对 ITO 薄膜光学特性的影响 | 第39页 |
·不同涂膜层数对 ITO 薄膜光学特性的影响 | 第39-40页 |
·ITO 薄膜的电学特性 | 第40-44页 |
·不同掺锡溶度对 ITO 薄膜电学特性的影响 | 第40-41页 |
·不同热处理温度对 ITO 薄膜电学特性的影响 | 第41-42页 |
·不同热处理时间对 ITO 薄膜电学特性的影响 | 第42-43页 |
·不同涂膜层数对 ITO 薄膜电学特性的影响 | 第43-44页 |
·本章小结 | 第44-45页 |
第四章 溶胶-凝胶法制备 AZO 薄膜及其性能的研究 | 第45-59页 |
·实验过程所需的试剂以及仪器 | 第45页 |
·AZO 薄膜的制备过程 | 第45-46页 |
·基体的预处理 | 第45页 |
·AZO 溶胶的制备 | 第45-46页 |
·AZO 薄膜的制备 | 第46页 |
·AZO 薄膜的物相结构 | 第46-50页 |
·ZnO 薄膜的物相结构 | 第46-47页 |
·不同热处理温度对 AZO 薄膜物相结构表征的影响 | 第47-48页 |
·不同热处理时间对 AZO 薄膜物相结构表征的影响 | 第48-49页 |
·不同掺 Al 浓度对 AZO 薄膜物相结构表征的影响 | 第49-50页 |
·ZnO 薄膜的表面形貌 | 第50-52页 |
·AZO 薄膜的光学特性 | 第52-55页 |
·不同掺Al浓度对 AZO 薄膜光学特性的影响 | 第52-53页 |
·不同热处理温度对 AZO 薄膜光学特性的影响 | 第53页 |
·不同热处理时间对 AZO 薄膜光学特性的影响 | 第53-54页 |
·不同镀膜层数对 AZO 薄膜光学特性的影响 | 第54-55页 |
·AZO 薄膜的电学特性 | 第55-58页 |
·不同掺Al浓度对 AZO 薄膜电学特性的影响 | 第55页 |
·不同热处理温度对 AZO 薄膜电学特性的影响 | 第55-56页 |
·不同热处理时间对 AZO 薄膜电学特性的影响 | 第56-57页 |
·不同镀膜层数对 AZO 薄膜电学特性的影响 | 第57-58页 |
·本章小结 | 第58-59页 |
第五章 实验结论 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-64页 |
攻读硕士期间发表和完成的论文 | 第64-65页 |
致谢 | 第65页 |