| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-33页 |
| ·金刚石 | 第10-13页 |
| ·金刚石的晶体结构 | 第10-11页 |
| ·金刚石分类和性质 | 第11-13页 |
| ·金刚石的分类 | 第11-12页 |
| ·金刚石性质 | 第12-13页 |
| ·金刚石的发展 | 第13-14页 |
| ·CVD 金刚石薄膜 | 第14-19页 |
| ·纳米金刚石薄膜沉积工艺 | 第15-19页 |
| ·微波等离子体 CVD 法 | 第16-18页 |
| ·热丝 CVD | 第18-19页 |
| ·纳米金刚石薄膜沉积机理 | 第19-30页 |
| ·纳米金刚石薄膜沉积机理 | 第19-23页 |
| ·纳米金刚石膜沉积工艺关键 | 第23-30页 |
| ·课题研究目的﹑意义和内容 | 第30-33页 |
| ·剃须刀片介绍 | 第31-32页 |
| ·课题研究内容和方法 | 第32-33页 |
| 第二章 金刚石薄膜沉积设备﹑制备工艺和性能分析方法 | 第33-43页 |
| ·HFCVD 方法简介 | 第33-37页 |
| ·实验设备介绍 | 第33-34页 |
| ·真空及气路系统 | 第34-36页 |
| ·热丝材质的选择 | 第36页 |
| ·衬底（基片）材料 | 第36-37页 |
| ·NCD 薄膜制备工艺 | 第37-40页 |
| ·实验材料的选取 | 第37-38页 |
| ·工艺流程 | 第38-39页 |
| ·样品台的改进 | 第39-40页 |
| ·CVD 金刚石薄膜的表征 | 第40-42页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第40页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第40-41页 |
| ·Raman 光谱原理 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第三章 HFCVD 金刚石薄膜的制备及性能表征 | 第43-64页 |
| ·热丝碳化工艺与过程的研究 | 第43-47页 |
| ·热丝碳化工艺 | 第43-44页 |
| ·热丝碳化过程 | 第44-47页 |
| ·基体预处理工艺 | 第47-50页 |
| ·纳米级金刚石薄膜的制备工艺 | 第50-59页 |
| ·不锈钢剃须刀片上沉积 NCD 膜 | 第52-55页 |
| ·YG6 刀片上沉积 NCD 膜 | 第55-59页 |
| ·沉积压力对 NCD 膜的影响 | 第55-57页 |
| ·碳氢流量比对 NCD 膜的影响 | 第57-59页 |
| ·NCD 薄膜的膜基结合强度性能分析 | 第59-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第四章 结论与展望 | 第64-66页 |
| ·结论 | 第64-65页 |
| ·展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 个人简历 | 第70页 |