| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 1 绪论 | 第8-16页 |
| ·SmCo_5研究背景与意义 | 第8-13页 |
| ·SmCo_5研究发展概况 | 第13-14页 |
| ·本论文研究目的与内容结构 | 第14-16页 |
| 2 薄膜样品的制备及分析测试 | 第16-28页 |
| ·磁控溅射装置及原理 | 第16-19页 |
| ·薄膜制备及溅射工艺参数 | 第19-23页 |
| ·样品的磁性能及微结构测试 | 第23-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 3 SmCo_5磁性薄膜的溅射工艺研究 | 第28-42页 |
| ·溅射功率对 SmCo 薄膜的影响 | 第28-34页 |
| ·薄膜厚度对 SmCo 薄膜磁性能的影响 | 第34-35页 |
| ·溅射气压对 SmCo 薄膜磁性能的影响 | 第35-37页 |
| ·后退火对 SmCo 薄膜磁性能的影响 | 第37-39页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 4 SmCo_5/Cu 薄膜底层的溅射工艺研究 | 第42-49页 |
| ·薄膜厚度对 Cu 底层晶粒取向、晶粒尺寸的影响 | 第42-44页 |
| ·退火对 Cu 晶粒取向，晶粒大小，表面粗糙度的影响 | 第44-47页 |
| ·Cu 底层对 SmCo_5磁性能的影响 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 5 总结与展望 | 第49-51页 |
| ·总结 | 第49-50页 |
| ·展望 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 附录 攻读学位期间发表论文情况 | 第56页 |