| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| ·本课题的研究意义和内容 | 第9-10页 |
| ·SnO_2的结构与性质 | 第10-11页 |
| ·SnO_2的晶体结构 | 第10页 |
| ·SnO_2薄膜的性质 | 第10-11页 |
| ·SnO_2薄膜的应用 | 第11-13页 |
| ·SnO_2薄膜在气敏材料中的应用 | 第11-12页 |
| ·SnO_2薄膜在电子工业中的应用 | 第12-13页 |
| ·SnO_2薄膜在玻璃工业中的应用 | 第13页 |
| ·SnO_2薄膜制备方法及研究进展 | 第13-17页 |
| ·物理气相沉积法 | 第13-15页 |
| ·化学气相沉积法 | 第15-16页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第16-17页 |
| ·本章小结 | 第17-18页 |
| 第2章 热蒸发法制备薄膜的相关理论 | 第18-29页 |
| ·热蒸发法 | 第18页 |
| ·薄膜的形成 | 第18-25页 |
| ·凝结过程 | 第18-22页 |
| ·核的形成和生长 | 第22-23页 |
| ·岛形成与结合生长过程 | 第23-25页 |
| ·薄膜的结构与缺陷 | 第25-27页 |
| ·薄膜的组织结构 | 第25页 |
| ·薄膜的晶体结构 | 第25-26页 |
| ·薄膜的表面结构 | 第26页 |
| ·薄膜的缺陷 | 第26-27页 |
| ·材料蒸发过程中的热力学计算 | 第27页 |
| ·本章小结 | 第27-29页 |
| 第3章 试验设备及方法 | 第29-32页 |
| ·试验设备 | 第29页 |
| ·高温管式炉的技术指标 | 第29-30页 |
| ·高温管式炉的结构介绍 | 第30页 |
| ·炉子的控温方式及真空系统 | 第30-32页 |
| 第4章 SnO_2/CNTs复合材料的制备工艺 | 第32-42页 |
| ·试验方法与过程 | 第32页 |
| ·试验过程 | 第32页 |
| ·试验方法 | 第32页 |
| ·试验结果及分析 | 第32-36页 |
| ·加热温度的影响 | 第33-35页 |
| ·压力的影响 | 第35-36页 |
| ·最佳参数及分析 | 第36-39页 |
| ·成分分析 | 第36-38页 |
| ·晶体结构分析 | 第38-39页 |
| ·显微结构分析 | 第39页 |
| ·沉积的理论分析 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第5 章 SnO_2纳米薄膜制备工艺及发光性能研究 | 第42-53页 |
| ·试验过程与方法 | 第42-43页 |
| ·试验过程 | 第42页 |
| ·试验方法 | 第42-43页 |
| ·工艺参数对SnO_2薄膜的影响 | 第43-46页 |
| ·加热温度的影响 | 第43-44页 |
| ·基片温度与距离的影响 | 第44-46页 |
| ·基底类型对薄膜的影响 | 第46页 |
| ·试验结果综合分析 | 第46-50页 |
| ·SnO_2薄膜的晶粒尺寸计算 | 第46-47页 |
| ·SnO_2薄膜结构分析 | 第47-50页 |
| ·SnO_2薄膜的发光性能 | 第50页 |
| ·SnO_2薄膜的生长过程分析 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 致谢 | 第58页 |